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Edwards iXM 200 干式真空泵 200-230 VAC 50/60 Hz 3 相部件号 A56106958

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  P1011376
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在 销售: NT$831,611.09

Edwards iXM 200 干式真空泵 200-230 VAC 50/60 Hz 3 相部件号 A56106958 831611.09
货币: New Taiwan Dollar (TWD)

描述

Edwards iXM 200 干式真空泵 200-230 VAC 50/60 Hz 3 相
Edwards 零件号 A56106958


Edwards iXM 200 是专为绿色制造而打造的新型干泵系列。使用非常低的能源,开发出高效罗茨机构,可将输入功率大幅降低至 1.3 kW,比上一代干泵低 60%,从而减少对环境的影响并降低拥有成本。气体阻隔技术和热设计改进使耐腐蚀性能比 iH 系列产品高出四倍。先进的粉末处理功能意味着 iXM 将为多层蚀刻工艺提供最大的可靠性并延长泵的使用寿命,并降低 CVD 工艺的功耗。

Edwards iXM 200 系列泵结构紧凑、重量轻,加上极低的噪音和振动,使 iXM 成为 Edwards 系列中用途最广泛的干泵。 iXM 将改变您对干式真空泵技术的期望,提供真正的好处并增加正常运行时间,同时对环境影响最小。 iXM 泵设计用于大多数半导体工艺,同时显着降低输入功率。有关完整的说明手册,请参阅侧面的下载。

特点和优点:
  • 主要用于清洁到轻度恶劣化学应用(请参阅下面的应用范围)
  • 峰值抽速 200 m3/h-1 (118 CFM)
  • 极限压力 1.5 X 10-2 Torr
  • 仅包含主泵
  • 无需预防性维护
  • 3/8 英寸快速连接注水器
  • 水和电源连接配对半部
  • 不锈钢水冷系统
  • Varimode 气体模块

    应用:
    • 负载锁
    • 转移
    • 气象
    • 光刻
    • 物理气相沉积PVD工艺
    • 物理气相沉积 PVD 预清洗
    • 快速热退火RTA
    • 剥离/灰化
    • 蚀刻
    • 植入源
    • 高密度等离子体化学气相沉积 HDP CVD
    • 快速热处理RTP
    • 低于大气压化学气相沉积SACVD
    • 钨化学气相沉积 WCVD
    • 改良化学气相沉积 MCVD
    • 等离子体增强化学气相沉积 PECVD
    • 低压化学气相沉积 LPCVD

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Ideal Vacuum Products , LLC
5910 Midway Park Blvd NE
Albuquerque, 新墨西哥 87109-5805 USA

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传真: (505) 872-9001
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