理想的な真空円形マグネトロンスパッタリングターゲット、酸化ニオブ-Nb ₂ O ₅スパッタリングターゲット、直径3インチ x 厚さ0.25インチ、純度99.99パーセント、0.125インチOFHC銅バッキングプレートに金属結合

本製品は、直径3インチ×厚さ0.25インチの円形マグネトロン型五酸化ニオブ（Nb ₂ O _5）スパッタリングターゲットです。純度は99.99%で、OFHC（無酸素高伝導性）銅バッキングプレートに金属結合されています。

最高品質の製品を可能な限り最高の価値でお届けするため、当社は非常に競争力のある価格戦略を採用しています。あらゆるご購入において、お求めやすい価格で優れた品質をお届けしています。すべてのお客様に大幅な割引を提供しており、大量注文のお客様には大幅な節約をお楽しみいただけます。当社は大量の製品を在庫しており、ご注文後、即日配送を保証しています。この短いリードタイムは、迅速な納期でキャッシュフローを管理したいすべてのお客様に好評です。常連のお客様は、在庫レベルを低く抑え、保管コストを削減し、陳腐化のリスクを最小限に抑えることができます。Ideal Vacuumからご購入いただくことで、お客様はより早く製品を受け取ることができ、満足度を高め、緊急のニーズにも対応できます。これにより、お客様は新しいトレンドや需要に迅速に対応し、競合他社に先んじることができます。

酸化ニオブ-Nb ₂ O ₅
酸化ニオブ（Nb ₂ O ₅ ）は、優れた光学特性、誘電特性、触媒特性を有することから、薄膜材料として有用です。主な特性を以下にまとめます。1. 屈折率：屈折率は約2.2～2.4（550 nm）で、高屈折率材料です。高い屈折率は光学コーティング、特に反射防止コーティング、光学フィルター、導波路などの多層構造に最適です。

2. 光学的透明性：透過窓：Nb2O5は可視光線から赤外線（約400 nm～5 µm）まで透明であるため、幅広い光学用途に適しています。レンズ、ミラー、光子デバイスの光学コーティングに広く使用されています。

3. 誘電特性：高誘電率：Nb2O5は高い誘電率（20～40）を有するため、コンデンサ、メモリデバイス、その他高容量を必要とする電子部品に適しています。また、薄膜トランジスタのゲート絶縁膜としても利用されています。

4. 化学的・熱的安定性：Nb2O5は化学的に安定しており、耐腐食性にも優れています。高温下でも優れた安定性を示すため、過酷な環境で使用される薄膜材料として信頼性の高い材料です。また、その熱的安定性により、高温にさらされる用途でも優れた性能を発揮します。

5. 機械的特性：Nb2O5 は硬くて耐久性に優れており、薄膜コーティングに優れた機械的強度を提供するため、保護コーティングや耐摩耗層に有効です。

6. 成膜方法：Nb2O5薄膜は、RFスパッタリング、反応性スパッタリング（ニオブ金属と酸素ガスを使用）、熱蒸着、電子ビーム蒸着など、様々な方法で成膜できます。また、高精度薄膜を形成するために、原子層堆積（ALD）法による成膜も可能です。

7. 用途：光学コーティング：高い屈折率と透明性により、反射防止コーティング、光学フィルター、導波管に使用されます。

マイクロエレクトロニクス: Nb2O5 は、コンデンサ、薄膜トランジスタ、および半導体デバイスの高 k 誘電体材料として使用されます。

触媒作用: Nb2O5 は触媒特性でも知られており、光触媒や燃料電池などの用途に使用されます。

保護コーティング: 工業用途において優れた耐摩耗性と腐食保護を提供します。

概要：五酸化ニオブ（Nb2O5）は、優れた光学特性と誘電特性を備えた高屈折率材料であり、光学コーティングや電子機器用途で広く使用されています。化学的安定性、誘電率、高い透明性により、コンデンサ、反射防止コーティング、フォトニックデバイスなど、様々な薄膜用途に適しています。

注記:
誘電体ターゲット材料には、脆性や低熱伝導率など、スパッタリングに適さない特性を持つため、金属またはエラストマー製のバッキングプレート接合が推奨されます。これらのターゲットは熱伝導率が低いため、熱衝撃の影響を最も受けやすく、起動時および停止時に特別な電力上昇および下降手順が必要となる場合があります。