理想的な真空円形マグネトロンスパッタリングターゲット、フッ化カルシウム - CaF 2スパッタリングターゲット、直径3インチ x 厚さ0.25インチ、純度99.9パーセント、0.125インチOFHC銅バッキングプレートに金属結合
アイディアル・バキューム・プロダクツLLC.本製品は、直径3インチ×厚さ0.25インチの円形マグネトロンCaF2スパッタリングターゲットです。純度99.9%で、厚さ0.125インチのOFHC(無酸素高伝導性)銅バッキングプレートに金属接合されています。
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フッ化カルシウム(CaF 2 )
プロパティ
外観:無色透明の結晶性固体(蛍石構造)
密度: 約3.18 g/cm³
結晶構造:立方晶系(蛍石型)
融点: 約1418℃
沸点: 約2533℃
熱伝導率: ~9.7 W/m·K (中程度)
電気特性: 優れた絶縁体 (抵抗率 >10¹² O·cm)
光学特性: 広いバンドギャップ (~12.1 eV)、深紫外線 (~150 nm) から中赤外線 (~8–9 µm) までの高い透過率
化学的安定性: 化学的に安定、耐湿性、非吸湿性、水に不溶
スパッタリング挙動: 脆い絶縁セラミック - RFマグネトロンスパッタリングが必要; 金属に比べてスパッタ収率が低い
薄膜での使用
フッ化カルシウムは、その広い透過率範囲と低い屈折率(約1.43)により、光学用途のPVDシステムにおいてRFマグネトロンスパッタリングによって広く成膜されています。多層積層において、高屈折率材料と組み合わせて使用されることがよくあります。
主な用途:
光学コーティング: 反射防止層、ビームスプリッター、レーザー光学系 (特に UV および IR システム)。
UV 光学: エキシマレーザーおよびリソグラフィー装置用のウィンドウ、レンズ、コーティング。
赤外線光学:IR センサー、熱画像システム、分光機器用のコーティング。
保護コーティング: 過酷な光学環境における耐久性と耐湿性を備えた層。
多層設計: 高精度干渉フィルターで高屈折率材料 (HfO2、Ta2O5 など) と組み合わせて使用します。
まとめ: CaF2 は、優れた光透過率、低い屈折率、化学的耐久性を備えているため、薄膜製造において高く評価されており、高性能の UV、可視光線、IR 光学システムの重要な材料となっています。

注記:誘電体ターゲット材料には、脆性や低熱伝導率など、スパッタリングに適さない特性を持つため、金属またはエラストマー製のバッキングプレート接合が推奨されます。これらのターゲットは熱伝導率が低いため、熱衝撃の影響を最も受けやすく、起動時および停止時に特別な電力上昇および下降手順が必要となる場合があります。