理想的な真空円形マグネトロンスパッタリングターゲット、ニオブ - Nbスパッタリングターゲット、直径3インチ x 厚さ0.25インチ、純度99.95パーセント

本製品は、直径3インチ×厚さ0.25インチの円形マグネトロンニオブ（Nb）スパッタリングターゲットです。純度は99.95%です。

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ニオブ - Nb

ニオブ（Nb）スパッタリングターゲットは、ニオブのユニークな電気的、機械的、そして超伝導特性により、薄膜堆積に広く使用されています。薄膜におけるニオブスパッタリングターゲットの概要は以下のとおりです。

1. 材料特性：
高融点: ニオブは融点が高い (約 2477°C) ため、高温用途に適しています。
耐腐食性: ニオブは、特に酸性環境において、酸化および腐食に対する耐性があります。
超伝導: ニオブは、特にその高い臨界温度 (Tc) と大きな超伝導電流を流す能力により、超伝導アプリケーションにおける重要な材料です。
電気伝導性: ニオブは導電性材料であるため、電子および電気薄膜アプリケーションに役立ちます。

2. 堆積方法：
DC スパッタリング: ニオブは導電性があるため、効率的な堆積速度が得られる DC マグネトロン スパッタリングが一般的に使用されます。
RF スパッタリング: RF スパッタリングは特殊な用途に使用したり、反応性スパッタリングと組み合わせてニオブ化合物を形成するために使用できます。
反応性スパッタリング: ニオブは反応性雰囲気（酸素や窒素など）でスパッタリングされ、特定の用途向けに酸化ニオブ（Nb2O5）または窒化ニオブ（NbN）を形成できます。

3. 用途:
超伝導フィルム: ニオブは超伝導フィルムの重要な材料であり、超伝導量子干渉素子 (SQUID)、超伝導回路、粒子加速器に使用されます。
マイクロエレクトロニクス: ニオブ薄膜は、その優れた導電性と安定性により、コンデンサ、相互接続部、マイクロエレクトロニクスの拡散バリアとして使用されます。
光学コーティング：ニオブは反射コーティングや光学フィルターに使用されます。反応性スパッタリングにより五酸化ニオブ（Nb2O5）が生成され、高屈折率光学コーティングに使用されます。
保護コーティング: ニオブは耐腐食性と耐酸化性を備えているため、化学処理や高性能アプリケーションにおける保護コーティングに適しています。
窒化ニオブ (NbN): 反応性スパッタリングにより形成される NbN は、超伝導フィルム、ハードコーティング、耐摩耗層に使用されます。

4. フィルム特性：
超伝導: ニオブ薄膜は低温で超伝導性を示すため、量子コンピューティングや高性能超伝導回路に不可欠です。
耐腐食性: ニオブフィルムは、特に過酷な環境において優れた耐腐食性を発揮するため、保護層やバリア層として役立ちます。
光学特性: 酸化ニオブ (Nb2O5) フィルムは屈折率が高く (約 2.2)、光学コーティングに使用されます。
機械的強度: ニオブフィルムは強度と耐久性に優れているため、耐摩耗性が求められる用途に適しています。

5. 反応性堆積：
五酸化ニオブ (Nb2O5): 酸素との反応性スパッタリングによって形成される Nb2O5 は、高い誘電率と光透明性を備えているため、光学コーティング、誘電体、コンデンサーに使用されます。
窒化ニオブ (NbN): NbN フィルムは、超伝導用途のほか、切削工具や耐摩耗性表面のハードコーティングにも使用されます。

6. 課題:
ターゲット中毒: 反応性スパッタリングでは、ターゲット中毒が発生する可能性があり、ターゲット上に非金属化合物 (酸化物や窒化物など) が形成され、スパッタリング効率が低下します。
内部応力: ニオブ膜は堆積中に内部応力を生じる可能性があり、これが膜の機械的特性と接着性に影響を及ぼす可能性があります。

まとめ：
ニオブ（Nb）スパッタリングターゲットは、超伝導、マイクロエレクトロニクス、光学コーティング、保護層などの用途における薄膜形成に広く使用されています。ニオブ薄膜の成膜にはDCスパッタリングが一般的に用いられ、反応性スパッタリングはNb2O5（光学コーティング、誘電体）やNbN（超伝導膜、ハードコーティング）などのニオブ化合物の形成に用いられます。ニオブ薄膜は、その超伝導特性、耐食性、機械的耐久性から、様々な産業で高く評価されています。

注記:
誘電体ターゲット材料には、脆性や低熱伝導率など、スパッタリングに適さない特性を持つため、金属またはエラストマー製のバッキングプレート接合が推奨されます。これらのターゲットは熱伝導率が低いため、熱衝撃の影響を最も受けやすく、起動時および停止時に特別な電力上昇および下降手順が必要となる場合があります。