Agilent Varian TwisTorr 305-IC 統合コントローラターボポンプ、Conflat CF 6 インチインレット、ポンプ速度 255 l/s、RS-232、空冷、PN: X3513-64025

これらの Agilent Varian TwisTorr 305-IC (統合コントローラおよび RS232 通信プロトコル シリアル ポート付き) ターボ分子真空ポンプは空冷式で、Conflat CF 6 インチ吸気フランジを備え、特許取得済みの TwisTorr ドラッグ ステージを備えた Agilent フローティング サスペンションを備えています。これらの Agilent Varian TwisTorr 305 FS ターボ分子高真空ポンプは、新しく設計されたラビリンス Twistor ドラッグ ステージ技術や Agilent フローティング サスペンション (AFS)、最適化された熱設計マッピングなど、新しく改良された性能を備えています。 TwisTorr ドラッグ ステージは、水素やヘリウムなどの軽ガスの高い圧縮比を生み出し、高スループットと高いフォアライン圧力耐性を実現し、それによってより小型でより経済的な補助ポンプの使用を可能にします。コンフラット吸気を備えた Agilent Varian TwisTorr 305 FS ターボ ポンプは、正しく使用した場合、到達圧力が 1x10-10 Torr という真の超高真空 (UHV) ポンプです。たとえば、これらのポンプのコンフラット バージョンでは、吸気を行うことができます。フランジは100℃まで焼きます。必要な空冷キットは別売りです。

この技術により、エネルギー効率が高く、低い動作温度を維持するコンパクトなローター設計が実現します。 Agilent フローティング サスペンション システム (AFS) は、騒音と振動を低減し、最適なベアリング動作条件を確保して動作寿命を延ばし、システムのダウンタイムを最小限に抑え、長期間にわたって安定したポンプ性能を保証します。永続的な潤滑を備えた独自のセラミック ボール ベアリングにより、オイルやメンテナンスが不要になり、どの方向でもポンプを操作できます。このモデルは 305-IC で、コントローラが統合されています。別途外部リモートコントローラーが必要な 305-FS ターボポンプも利用できます。

Agilent ターボ ポンプは、実際のアプリケーションで最適なパフォーマンスを発揮できるように設計されており、ポンプ システムとマルチフロー ポンプの統合が含まれています。コンパクトなサイズのポンプは、スペース要件が厳しい業界のニーズを満たします。これらの新しい Agilent TwisTorr 305 IC ターボ ポンプは、メンテナンスを最小限またはまったく必要とせず、誤使用から保護します。これらのポンプは、長寿命、衝撃、振動、梱包、熱、騒音などのさまざまな品質および信頼性テストを通過します。

ISO-100K フランジを備えた Agilent Varian TwistTorr 305IC ターボ ポンプは、窒素の排気速度 255 l/s、KF-16 フォアライン フランジ、周囲動作温度 5 °C ～ +35 °C を備えています。これらの 305 FS ポンプの起動時間は 3 分、回転速度は 60,000 rpm です。推奨するフォアライン ポンプは、乾式 IDP-3、IDP-7、IDP-10、または湿式 DS-102、DS-302 です。冷却要件は、周囲温度が 5 ～ 35 °C の条件の場合は最小限の強制空気、または最小流量での水冷: 50 l/h (0.22 GPM)、水温が +15 °C ～ +30 °C の場合です。最大水圧 5 bar (75 psi)。 このユニットはファンなしで周囲空冷されます。付属のファンが利用可能です。また、水冷ポンプ バージョンも利用できます。

新しい Agilent Twistorr 305IC は、幅広いアプリケーションに適したパフォーマンスと機能の融合を提供します。非常に汎用性の高いターボで、さまざまな分野で使用できます。

一般的なターボ ポンプの用途には次のものがあります。

• 質量分析法
• ガスクロマトグラフィー質量分析 (GC/MS)
• 液体クロマトグラフィー質量分析 (LC/MS)
• 誘導結合プラズマ質量分析 (ICP-MS)
• 飛行時間型質量分析法 (TOF)

研究開発における空白:

• 高エネルギー物理学
• 融合技術
• 一般的な UHV 研究
• シンクロトロン光源 粒子加速器

ナノテクノロジー機器:

• 電子顕微鏡法
• 走査型電子顕微鏡 (SEM)
• 透過型電子顕微鏡 (TEM)
• 集束イオンビームシステム (FIB)
• 表面分析
• 半導体製造

工業用真空処理:

• 薄膜堆積
• ガラスコーティング装置（建築用・自動車用ガラス、フラットパネルディスプレイ）
• 薄膜太陽電池の製造（太陽光発電）
• 光データメディア (CD、DVD、光磁気ディスク)
• 磁気記憶媒体
• 表面処理
• 光学コーティング (眼科用、精密オプトエレクトロニクス)
• フィルムまたはフォイルへのロール/ウェブコーティング

デバイスの処理:

• テレビおよびモニター受像管の製造
• ランプの避難（高速道路の照明、ビーマー）
• X線管と電子機器

一般的なプロセス:

• 真空炉
• 冶金

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