Pompa per vuoto a secco Edwards iXM 1200 200-230 VAC 50/60 hz 3 ph. Codice A56146958

La Edwards iXM 1200 è una nuova gamma di pompe a secco realizzate per la produzione ecologica. Utilizzando un'energia molto bassa, l'efficiente meccanismo Roots è stato sviluppato per ridurre drasticamente la potenza in ingresso a 1,3 kW, il 60% in meno rispetto alla precedente generazione di pompe a secco, riducendo l'impatto ambientale e abbassando i costi di proprietà. La tecnologia della barriera ai gas e i miglioramenti del design termico consentono una resistenza alla corrosione quattro volte superiore rispetto ai prodotti della serie iH. Le avanzate caratteristiche di gestione delle polveri significano che iXM fornirà la massima affidabilità e una maggiore durata della pompa per i processi di attacco multistrato e un consumo energetico ridotto per i processi CVD.

Le pompe Edwards serie iXM 1200 sono compatte e dal design leggero, combinate con livelli di rumorosità e vibrazioni eccezionalmente bassi, fanno di iXM la pompa a secco più versatile della gamma Edwards. iXM trasformerà le vostre aspettative sulla tecnologia delle pompe per vuoto a secco, offrendo vantaggi reali e maggiore tempo di attività, con un impatto ambientale minimo. Le pompe iXM sono progettate per l'uso nella maggior parte dei processi di semiconduttori, offrendo allo stesso tempo significative riduzioni della potenza in ingresso. Per il Manuale di istruzioni completo vedere Download a lato.

Caratteristiche e vantaggi:

• Principalmente per applicazioni chimiche aggressive da pulite a leggere (vedere lo spettro delle applicazioni di seguito)
• Velocità di pompaggio massima 1030 m3/h-1 (606 CFM)
• Pressione finale 5.0 X 10-3 Torr
• Nessuna manutenzione preventiva richiesta
• Riempimenti d'acqua a connessione rapida da 3/8 di pollice
• Metà di accoppiamento per collegamento idrico ed elettrico
• Sistema di raffreddamento ad acqua SS
• Modulo gas Varimode
  
  APPLICAZIONI:
  • Blocco del carico
  • Trasferimento
  • Meteorologia
  • Litografia
  • Processo PVD di deposizione fisica in fase di vapore
  • Deposizione fisica in fase di vapore PVD Pre-pulizia
  • Rapida ricottura termica RTA
  • Striscia/Incenerimento
  • Acquaforte
  • Fonte dell'impianto
  • Deposizione chimica in fase di vapore al plasma ad alta densità HDP CVD
  • Elaborazione termica rapida RTP
  • Deposizione di vapore chimico sub-atmosferico SACVD
  • Tungsten Chemical Vapor Deposition WCVD
  • Deposizione di vapore chimico modificato MCVD
  • PECVD per la deposizione chimica in fase di vapore potenziata dal plasma
  • Deposizione di vapore chimico a bassa pressione LPCVD