Skip to main content
× 服务 产品 目录 下载 技术支持 关于 接触 职业机会 (505) 872-0037

(505) 872-0037

Shopping Cart Icon
大车
 
Login Icon
登录
Language Selector
zh-tw
×
Americas
Europe
Middle East & Africa
Asia Pacific & Japan
Agilent IDP-15 Dry Scroll Vacuum Pumps On Sale Edwards nEXT300D TStations On Sale Edwards nXR Multi Stage Roots Pumps On Sale Agilent TriScroll Pumps On Sale Ideal Vacuum XG-120 Digital Thermocouple Gauges On Sale Ideal Vacuum XGC-320 Portable Digital Thermocouple Controllers On Sale

关键词       零件号:      

× 真空泵 普通真空室 不锈钢真空室 铝真空室 ExploraVAC 无限 室 ExploraVAC 真空室 配件和法兰 馈通件 真空阀 重建套件、零件和电机 真空液体、油脂和润滑脂 涡轮泵和控制器 过滤器 陷阱 和 消音器 对流和真空预热 泄漏检测和RGA 真空压力测量 循环冷却器和水浴
Pfeiffer Adixen 中型 A3P 系列半导体干式真空泵基于成熟的多级罗茨技术。泵的内部可抵抗腐蚀性气体。因此,这些泵在中等负载过程中具有很高的可靠性。该系列的三种可用型号提供广泛的抽速,从而满足半导体行业中型真空泵的大多数要求。 Pfeiffer Adixen A3P 系列适合在洁净室中操作,符合 CE 和 Semi S2 标准。

干泵以其在中型工艺应用中的高可靠性而著称。该系列泵配有温度传感器和惰性气体冲洗。低噪音排放和低振动水平是 Pfeiffer Adixen A3P 系列的进一步特征。

Pfeiffer Adixen ADH、A4H 和 A4X 严苛工艺系列干式半导体真空泵适用于半导体和涂层行业等化学工艺。这些过程非常苛刻,因为主要使用侵蚀性和腐蚀性介质并在真空下进行处理。这些介质对工艺系统的设计和质量有最高的要求。典型的严苛工艺包括蚀刻、化学气相沉积 (CVD)、原子层沉积 (ALD) 以及金属有机化学气相沉积 (MOCVD)。

由于恶劣的工艺过程中会使用侵蚀性和腐蚀性化学品,因此真空泵和组件必须耐腐蚀。在半导体和涂层行业的应用中,粉末的出现经常增加,这可能导致真空泵中的积聚。因此,必须确保所使用的流程泵适合该数量的粉末。为了最好地避免泵内部出现冷凝,将吹扫气体与复杂的温度管理相结合。

有关这些的更多信息
2607321.290175
Pfeiffer Vacuum 1504H V2 SC CC T SH 6 6 CV, Pfeiffer-Adixen 干式多级罗茨真空泵, Pfeiffer Adixen 干式多级罗茨真空泵,  PN  F4HC7TSH6612210
×

Load

描述

  
Pfeiffer Vacuum 1504H V2 SC CC T SH 6 6 CV, Pfeiffer-Adixen 干式多级罗茨真空泵, Pfeiffer Adixen 干式多级罗茨真空泵,  PN  F4HC7TSH6612210

这些 Pfeiffer Vacuum 1504H V2 SC CC T SH 6 6 CV  有零件号 F4HC7TSH6612210, 都是新的,并且配备齐全 Pfeiffer Vacuum 保修单。 Pfeiffer Adixen 中型 A3P 系列半导体干式真空泵基于成熟的多级罗茨技术。泵的内部可抵抗腐蚀性气体。因此,这些泵在中等负载过程中具有很高的可靠性。该系列的三种可用型号提供广泛的抽速,从而满足半导体行业中型真空泵的大多数要求。 Pfeiffer Adixen A3P 系列适合在洁净室中操作,符合 CE 和 Semi S2 标准。

干泵以其在中型工艺应用中的高可靠性而著称。该系列泵配有温度传感器和惰性气体冲洗。低噪音排放和低振动水平是 Pfeiffer Adixen A3P 系列的进一步特征。

Pfeiffer Adixen ADH、A4H 和 A4X 严苛工艺系列干式半导体真空泵适用于半导体和涂层行业等化学工艺。这些过程非常苛刻,因为主要使用侵蚀性和腐蚀性介质并在真空下进行处理。这些介质对工艺系统的设计和质量有最高的要求。典型的严苛工艺包括蚀刻、化学气相沉积 (CVD)、原子层沉积 (ALD) 以及金属有机化学气相沉积 (MOCVD)。

由于恶劣的工艺过程中会使用侵蚀性和腐蚀性化学品,因此真空泵和组件必须耐腐蚀。在半导体和涂层行业的应用中,粉末的出现经常增加,这可能导致真空泵中的积聚。因此,必须确保所使用的流程泵适合该数量的粉末。为了最好地避免泵内部出现冷凝,将吹扫气体与复杂的温度管理相结合。

有关这些的更多信息Pfeiffer Vacuum 1504H V2 SC CC T SH 6 6 CV  可以通过下载下面的 pdf 目录和文档来找到。只需打开 pdf 下面的目录,运行 pdf 搜索 (ctrl F) 并搜索 F4HC7TSH6612210.

价格

产品: Pfeiffer Vacuum 1504H V2 SC CC T SH 6 6 CV, Pfeiffer Adixen 干式多级罗茨真空泵, Pfeiffer Adixen 干式多级罗茨真空泵,  PN  F4HC7TSH6612210

健康)状况: New
保修单: Pfeiffer Vacuum 保修单
零件号: F4HC7TSH6612210
销售价格: NT$2,607,321.29

货币 New Taiwan Dollar (TWD)

QTY:   

手册



可供下载:
  Pfeiffer A 100L标准版,低电压,RS232/RS485接口数据表.pdf (0.58 MB)
  Pfeiffer A 200L 多级罗茨泵干式半导体真空泵手册.pdf (0.68 MB)
  Pfeiffer A103P、A603P、A1003P 干式半导体真空泵手册.pdf (0.31 MB)
  Pfeiffer A4系列干式多级罗茨半导体真空泵手册.pdf (1.37 MB)
  Pfeiffer ACP 120G、ACG 600G 干式半导体真空泵操作说明.pdf (6.74 MB)
  Pfeiffer ADH系列高性能干式半导体真空泵手册.pdf (1.33 MB)
Marca de agua con el logotipo de Ideal Vacuum
联系我们
Ideal Vacuum Products , LLC
5910 Midway Park Blvd NE
Albuquerque, 新墨西哥 87109-5805 USA

电话: (505) 872-0037
传真: (505) 872-9001
info@idealvac.com