Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，氧化铝 - Al2O3 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.125 英寸，纯度 99.99%，与 OFHC 铜背板金属结合。Ideal Vacuum Products, LLC。该产品为圆形磁控氧化铝 - Al2O3 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.125 英寸。纯度为 99.99%，与 OFHC（无氧高导电性）铜背板金属结合。我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最优质的产品，让您在每次购买中都能享受到实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额折扣。我们库存大量产品，保证客户下订单后当天发货。所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户都喜欢这种较短的交货时间。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大限度地降低过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到他们的产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求来保持领先于竞争对手。氧化铝 - Al2O31. 折射率：折射率：~1.63（550 nm 时），使其成为低到中等折射率的材料。此特性使其适用于多层光学涂层，例如抗反射涂层、介电镜和滤光片。2. 光学透明度：透射窗口：Al2O3 在紫外线 (UV) 到红外线 (IR) 范围内高度透明，从 ~200 nm 到 ~5 µm。这使其适用于紫外线、可见光和红外线波长的各种光学应用。3.机械性能：Al2O3 极其坚硬耐磨，是承受机械应力的表面保护涂层和耐磨层的绝佳选择。其高机械强度也使其适用于恶劣环境中的微电子和保护涂层。4. 化学和热稳定性：Al2O3 具有高度化学惰性，耐腐蚀和氧化，适合在化学恶劣环境中使用。它具有很高的热稳定性，可用于高温应用。5. 介电性能：高介电常数：Al2O3 具有相对较高的介电常数 (~9)，这使其可用作栅极电介质和电子应用的电容器。它在半导体器件中充当出色的绝缘层，提供良好的电绝缘和热稳定性。6. 沉积方法：Al2O3 薄膜可以通过多种方法沉积，包括射频溅射、反应溅射、原子层沉积 (ALD) 和热蒸发。ALD 特别适用于半导体和纳米技术应用中的超薄保形涂层。7.应用：光学涂层：Al2O3 通常用于抗反射涂层、光学保护涂层以及多层介电镜的一部分。微电子：Al2O3 广泛用于 MOSFET 中作为栅极绝缘体、电容器以及半导体器件中的钝化层。保护涂层：由于其硬度和耐磨性以及耐化学性，它用于保护工业应用中的表面。阻隔涂层：Al2O3 提供出色的扩散阻隔，并用于包装和防潮层。摘要：氧化铝 (Al2O3) 是一种多功能薄膜材料，具有光学透明度、机械耐久性、化学惰性和介电性能。它广泛用于光学涂层、微电子、保护层和阻隔涂层，应用范围从半导体器件到耐磨涂层和光学元件。其透明度和稳定性的结合使其成为各个行业高性能涂层的关键材料。注：建议对所有介电靶材使用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有不易溅射的特性，例如易碎和低热导率。这些靶材由于热导率低，最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，氧化铝 - Al2O3 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.99%，金属键合至 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控溅射靶，氧化铝 - Al2O3 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸。纯度 99.99%，金属键合至 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每次购买都兼具价格优势和卓越品质。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种较短的交货周期深受我们所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大限度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新的趋势和需求，从而在竞争中保持领先地位。氧化铝 - Al2O31. 折射率：折射率：~1.63（550 nm 处），使其成为一种低折射率到中折射率材料。此特性使其适用于多层光学涂层，例如抗反射涂层、介质镜和滤光片。2. 光学透明度：透射窗口：Al2O3 在紫外 (UV) 至红外 (IR) 范围内（~200 nm 至 ~5 µm）具有高度透明度。这使其适用于紫外、可见光和红外波长范围内的各种光学应用。3.机械性能：Al2O3 极其坚硬耐磨，是用于承受机械应力表面防护涂层和耐磨层的理想选择。其高机械强度也使其适用于恶劣环境下的微电子和防护涂层。4. 化学稳定性和热稳定性：Al2O3 具有高度的化学惰性，耐腐蚀和氧化，适用于化学腐蚀环境。它具有很高的热稳定性，使其在高温应用中非常有用。5. 介电性能：高介电常数：Al2O3 具有相对较高的介电常数（~9），使其可用作栅极电介质和电子应用的电容器。它在半导体器件中可作为优异的绝缘层，提供良好的电绝缘性和热稳定性。6. 沉积方法：Al2O3 薄膜可以通过多种方法沉积，包括射频溅射、反应溅射、原子层沉积 (ALD) 和热蒸发。ALD 尤其适用于半导体和纳米技术应用中的超薄保形涂层。7.应用：光学涂层：Al2O3 通常用于抗反射涂层、光学保护涂层以及多层介质镜的一部分。微电子：Al2O3 广泛用于 MOSFET 中作为栅极绝缘体、电容器以及半导体器件中的钝化层。保护涂层：由于其硬度、耐磨性和耐化学性，它用于保护工业应用中的表面。阻隔涂层：Al2O3 提供优异的扩散阻隔，并用于包装和防潮层。摘要：氧化铝 (Al2O3) 是一种用途广泛的薄膜材料，具有光学透明性、机械耐久性、化学惰性和介电性能。它广泛用于光学涂层、微电子、保护层和阻隔涂层，应用范围从半导体器件到耐磨涂层和光学元件。其透明度和稳定性的结合使其成为各行各业高性能涂层的关键材料。注：所有介电靶材均建议采用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有脆性和低热导率等不利于溅射的特性。由于热导率低，这些靶材最易受到热冲击的影响，因此在启动和关闭阶段可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，铋 - (Bi) 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.99%。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.99%。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每一次购买都兼具价格优势和卓越品质。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户更可享受更多优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种快速的交货周期深受所有希望通过更快周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大程度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新趋势和需求，从而保持竞争优势。铋 - PVD 溅射靶材的关键特性：外观：脆性银白色金属，略带粉红色；密度：~9.78 g/cm³（高）；晶体结构：菱面体；熔点：271.4 °C（低，溅射过程中热敏感）；沸点：~1564 °C；热导率：~7.97 W/m·K（低，保温）；电阻率：~115 µO·cm（远高于大多数金属，半金属行为）；氧化性：在空气中形成薄氧化层，但在室温下保持相对稳定；磁性：抗磁性；溅射行为：软而脆的靶材，溅射产额中等；需要仔细控制功率以避免熔化或形成液滴。应用：铋在PVD（物理气相沉积）中溅射用于制备纯金属或化合物薄膜，通常使用金属模式下的直流溅射或氧化物模式下的射频溅射。其低熔点要求低至中等功率密度和高效冷却。铋的性质和应用：拓扑和热电薄膜：用于热电器件和自旋电子学研究的铋和铋基化合物（例如Bi2Te3、Bi2Se3）；光学涂层：用于光学和光子学中高折射率层的氧化铋（Bi2O3）；电子：用于存储器件中的栅极电介质、电阻开关层和铁电元件（例如BiFeO3）；催化：用于光催化和电化学应用的含铋氧化物；医疗和辐射屏蔽膜：由于铋的密度高且与铅相比无毒，其金属铋的电阻率在室温（~20 °C）下约为115 µO·cm。与大多数金属相比，铋的电阻率相对较高，这是由于其半金属性质和低载流子密度。在薄膜应用中，这种特性使铋及其化合物可用于热电材料、电子开关层和功能性氧化物涂层，但这也意味着它不太适合需要高电导率的应用。注意：建议所有介电靶材均采用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有不易溅射的特性，例如脆性和低热导率。由于热导率低，这些靶材最容易受到热冲击，因此在启动和关闭过程中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，氟化钙 - CaF2 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.9%，金属键合至 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控 CaF2 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸。纯度 99.9%，金属键合至 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每次购买都兼具经济实惠和卓越品质。我们为每位客户提供大幅折扣，批量订购的客户将享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种较短的交货周期深受所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大程度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买产品意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求在竞争中保持领先地位。氟化钙（CaF2）特性外观：透明、无色晶体固体（萤石结构）密度：~3.18 g/cm³晶体结构：立方体（萤石类型）熔点：~1418 °C沸点：~2533 °C热导率：~9.7 W/m·K（中等）电气特性：优良的绝缘体（电阻率>10¹² O·cm）光学特性：宽带隙（~12.1 eV），从深紫外（~150 nm）到中红外（~8–9 µm）的高透射率化学稳定性：化学稳定、防潮、不吸湿；不溶于水溅射行为：脆性绝缘陶瓷 - 需要射频磁控溅射；与金属相比溅射产量较低薄膜中的使用氟化钙由于其广泛的透明度范围和低折射率（~1.43），广泛通过 PVD 系统中的射频磁控溅射沉积用于光学应用。它通常与高折射率材料组合用于多层堆叠。主要应用：光学镀膜：抗反射层、分束器和激光光学元件（尤其是紫外和红外系统）。紫外光学元件：准分子激光器和光刻设备的窗口片、透镜和镀膜。红外光学元件：红外传感器、热成像系统和光谱仪器的镀膜。保护膜：在恶劣光学环境下耐用的防潮层。多层设计：与高折射率材料（例如 HfO2、Ta2O5）配合用于精密干涉滤光片。摘要：CaF2 因其卓越的光学透射率、低折射率和化学稳定性而在薄膜生产中备受重视，使其成为高性能紫外、可见光和红外光学系统中的关键材料。备注：建议所有介电靶材均采用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有脆性和低导热性等不利于溅射的特性。由于这些目标的热导率较低，因此最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控管溅射靶，铬 - Cr 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.95% Ideal Vacuum Products, LLC。本产品为圆形磁控管铬 - Cr 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸。纯度为 99.95%。我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最高质量的产品，让您在每次购买中都能享受到实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额折扣。我们库存大量产品，保证客户下订单后当天发货。这种短交货期深受所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户喜爱。我们的老客户可以保持较低的库存水平，降低仓储成本并最大限度地降低过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求来保持竞争优势。铬 - Cr 铬 (Cr) 溅射靶由于铬具有出色的机械、化学和光学性能而广泛用于薄膜涂层。以下是薄膜涂层中铬溅射靶的简要总结：1. 材料特性：高硬度：铬是一种非常坚硬的材料，使其成为需要耐磨性和耐用性的薄膜的理想选择。耐腐蚀性：铬具有出色的耐腐蚀性，特别是在恶劣环境中，使其可用于保护涂层。附着力促进剂：铬薄膜通常用于提高不同层之间的附着力，特别是在多层涂层中。2.沉积方法：直流溅射：铬是导电材料，因此通常使用直流磁控溅射进行沉积，以确保高沉积速率和均匀的薄膜。射频溅射：射频溅射可用于特殊应用，特别是在反应环境中形成铬化合物。反应溅射：铬通常在反应气体（例如氧气或氮气）存在下溅射以形成氧化铬（Cr2O3）或氮化铬（CrN），它们具有特定用途。3.应用：装饰涂层：铬因其光泽、反光效果和耐用性而可用于手表、珠宝和汽车内饰等物品的装饰薄膜。保护涂层：铬薄膜具有耐磨性和防腐性能，使其成为工具、机械零件和化学加工设备的理想选择。微电子：由于铬的稳定性和导电性，它可用于半导体设备中的薄膜电阻器、电触点和扩散屏障。光学涂层：铬薄膜用于光学设备、镜子和滤光片的反射涂层和防反射涂层。硬涂层：铬化合物如氮化铬（CrN）用于切削工具、耐磨表面和机械零件的硬涂层。4.薄膜特性：机械强度：铬薄膜坚硬耐用，可在工具和工业设备等要求严格的应用中提供出色的保护。耐腐蚀性：铬薄膜可抗氧化和腐蚀，使其成为恶劣化学环境中保护涂层的理想选择。附着力：铬通常用作多层涂层中的附着层，有助于粘合金属、玻璃和其他材料。光学反射率：铬薄膜具有良好的反射率，因其闪亮的金属外观而用于光学和装饰涂层。5. 反应沉积：氧化铬 (Cr2O3)：氧化铬在氧气环境中通过反应溅射形成，因其硬度、耐磨性和防腐性能而用于高性能应用中。氮化铬 (CrN)：CrN 通过在氮气气氛中溅射铬形成，用于切削工具和其他耐磨应用的硬质涂层。6.挑战：靶中毒：在反应溅射工艺（例如形成 Cr2O3 或 CrN）中，靶中毒可能发生，靶表面形成非金属化合物，从而降低溅射效率。薄膜应力：铬膜在沉积过程中会产生内应力，影响膜的附着力和机械性能，尤其是在厚层中。摘要：铬 (Cr) 溅射靶因其高硬度、耐腐蚀性和优异的附着力而被广泛用于保护层、装饰面漆、光学涂层和微电子薄膜涂层。直流溅射通常用于高效铬沉积，而反应溅射可形成氧化铬 (Cr2O3) 和氮化铬 (CrN) 等化合物，这些化合物可用于切削工具和其他苛刻应用的硬涂层。铬膜兼具耐用性、保护性和反射性，使其适用于广泛的行业。注：建议对所有介电靶材使用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有不易溅射的特性，例如易碎和低热导率。这些靶材由于热导率低，最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，铬 - 铬溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.9%。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控铬 - 铬溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.9%。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每一次购买都兼具价格实惠和卓越品质。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户更可享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种快速的交货周期深受所有希望通过更快周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大程度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新趋势和需求，从而保持竞争优势。铬 - Cr 铬 (Cr) 溅射靶由于其优异的机械、化学和光学性能而被广泛用于薄膜涂层。以下是薄膜涂层中铬溅射靶的简要概述：1. 材料特性：高硬度：铬是一种非常坚硬的材料，非常适合需要耐磨性和耐用性的薄膜。耐腐蚀性：铬具有优异的耐腐蚀性，尤其是在恶劣环境下，使其可用于保护涂层。附着力促进剂：铬薄膜通常用于提高不同层之间的附着力，尤其是在多层涂层中。2.沉积方法：直流溅射：铬是导电材料，因此通常使用直流磁控溅射进行沉积，以确保高沉积速率和均匀的薄膜。射频溅射：射频溅射可用于特殊应用，特别是在反应环境中形成铬化合物。反应溅射：铬通常在反应气体（例如氧气或氮气）存在下溅射以形成氧化铬（Cr2O3）或氮化铬（CrN），它们具有特定用途。3.应用：装饰涂层：铬因其光泽、反光效果和耐用性而用于手表、珠宝和汽车装饰等物品的装饰薄膜。保护涂层：铬薄膜提供耐磨性和防腐蚀保护，使其成为工具、机械零件和化学加工设备的理想选择。微电子：由于铬的稳定性和导电性，铬可用于半导体器件中的薄膜电阻器、电触点和扩散屏障。光学涂层：铬薄膜用于光学设备、镜子和滤光片的反射涂层和防反射涂层。硬涂层：铬化合物如氮化铬（CrN）用于切削工具、耐磨表面和机械零件的硬涂层。4.薄膜特性：机械强度：铬薄膜坚硬耐用，可在工具和工业设备等要求严苛的应用中提供出色的保护。耐腐蚀性：铬薄膜可抗氧化和腐蚀，是恶劣化学环境中保护涂层的理想选择。附着力：铬通常用作多层涂层中的粘附层，有助于粘合金属、玻璃和其他材料。光学反射率：铬薄膜具有良好的反射率，因其闪亮的金属外观而用于光学和装饰涂层。5. 反应沉积：氧化铬 (Cr2O3)：在氧气环境中通过反应溅射形成，氧化铬因其硬度、耐磨性和防腐蚀性能而用于高性能应用中。氮化铬 (CrN)：通过在氮气气氛中溅射铬形成，CrN 用于切削工具和其他耐磨应用的硬质涂层。6.挑战：靶材中毒：在反应溅射工艺（例如，形成Cr2O3或CrN）中，靶材可能会发生中毒，导致靶材表面形成非金属化合物，从而降低溅射效率。薄膜应力：铬膜在沉积过程中会产生内应力，影响膜的附着力和机械性能，尤其是在厚膜层中。摘要：铬（Cr）溅射靶材因其高硬度、耐腐蚀性和优异的附着力，广泛用于保护层、装饰面漆、光学镀膜和微电子薄膜涂层。直流溅射通常用于高效的铬沉积，而反应溅射则可以形成氧化铬（Cr2O3）和氮化铬（CrN）等化合物，这些化合物可用于切削刀具和其他高要求应用的硬质涂层。铬膜兼具耐久性、防护性和反射性，使其适用于各种行业。注：所有介电靶材均建议采用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有脆性和低热导率等不利于溅射的特性。由于热导率低，这些靶材最易受到热冲击的影响，因此在启动和关闭阶段可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，铜 - 铜溅射靶或铜背板，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.99%。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控溅射靶，铜 - 铜溅射靶或铜背板，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.99%。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每次购买都兼具价格优势和卓越品质。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户更可享受更多优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种快速的交货周期深受所有希望通过更快周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大程度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新趋势和需求，从而在竞争中保持领先地位。铜 - Cu 铜 (Cu) 溅射靶材因其优异的电学和热学性能而常用于薄膜沉积。以下是薄膜中铜溅射靶材的简要概述：1. 材料特性：高电导率：铜是最好的电导体之一，使其成为微电子和电气应用中薄膜的理想选择。热导率：铜具有高热导率，这对于散热至关重要的薄膜非常有用。延展性：铜是一种延展性材料，这意味着它可以形成机械稳定且柔韧的薄膜。2.沉积方法：直流溅射：由于铜是导电材料，因此直流磁控溅射通常用于高效薄膜沉积。射频溅射：虽然直流溅射是首选，但射频溅射也可用于某些需要交变场的应用。反应溅射：铜可以在与氧气等气体的反应环境中溅射，形成氧化铜（例如 CuO、Cu2O），用于特定应用。3.应用：微电子：铜因其优异的导电性而被广泛用于集成电路、半导体器件和薄膜晶体管的互连和电接触。印刷电路板 (PCB)：铜薄膜在 PCB 的制造中至关重要，它们构成电子元件的导电通路。太阳能电池：铜在某些薄膜太阳能电池中用作电接触，并作为 CIGS（铜铟镓硒）等化合物的成分。光学涂层：铜在可见光和红外范围内具有高反射率，因此偶尔用于反射涂层和镜子。散热器和热管理：铜薄膜用于导热性至关重要的应用中，例如微电子中的散热器和热管理层。4.薄膜特性：高电导率：铜薄膜具有优异的电性能，使其成为电子产品中导电层的理想选择。热导率：铜膜高效散热，提高大功率电子应用中设备的可靠性和使用寿命。耐腐蚀性：铜膜易被氧化，因此通常会添加保护层（如镍或铬）以防止腐蚀。粘附性：铜对各种基材均具有良好的粘附性，但有时使用粘附层（如钛或铬）来增强与某些材料的结合。5. 反应沉积：氧化铜（CuO、Cu2O）：铜可以在富氧环境中溅射形成氧化铜，由于其半导体特性，氧化铜可用于电子、传感器和光伏领域。6. 挑战：氧化：铜容易氧化，尤其是在空气或湿气存在的情况下。为避免这种情况，沉积通常在受控环境中进行，并可能施加额外的保护层。电迁移：在微电子领域，薄铜膜可能发生电迁移，即原子在电流作用下移动，这可能导致器件故障。阻挡层（例如钽或钛）可用于减轻这种影响。扩散：铜会扩散到其他材料中，尤其是硅，这会降低器件性能。扩散阻挡层（例如钽）可用于防止这种情况发生。摘要：由于铜具有高导电性、导热性和延展性，铜 (Cu) 溅射靶材对于微电子、太阳能电池、光学镀膜和热管理等薄膜应用至关重要。直流溅射通常用于铜沉积，而反应溅射则可以生成用于特殊应用的氧化铜。铜薄膜广泛用于互连、电接触和散热，但在敏感应用中必须小心防止氧化和扩散。注：所有介电靶材均建议采用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有脆性和低热导率等不利于溅射的特性。由于热导率低，这些靶材最易受到热冲击的影响，因此在启动和关闭阶段可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，铪 - 铪溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.99%。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控铪 - 铪溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.99%。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每次购买都兼具价格实惠和卓越品质。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种短交货期深受所有希望通过更快周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大程度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求，在竞争中保持领先地位。铪 - 铪金属 - PVD 溅射靶材的关键特性外观：银灰色过渡金属密度：~13.31 g/cm³（非常致密）晶体结构：六方密排 (HCP)熔点：2233 °C（非常高，热稳定性极佳）沸点：~4602 °C热导率：~23 W/m·K（中等，需要良好的冷却）电阻率：~33.1 µO·cm（直流溅射的良好导体）耐腐蚀性：优异，尤其耐碱和酸中子吸收：非常低的热中子吸收截面（在核应用中有用）溅射产量：低于软金属，中等沉积速率反应性：形成稳定的化合物（HfO2， : 铪 (HfN) 与氧和氮的混合体硬度和稳定性：极高的熔点和机械强度，耐侵蚀和热损伤铪的性质和应用：铪 (Hf) 是一种致密的银灰色过渡金属，密度约为 13.31 g/cm³，熔点高达 2233 °C，在溅射过程中具有出色的热稳定性。它具有良好的耐腐蚀性、低热中子吸收和六方密排 (HCP) 晶体结构。它的电阻率 (~33.1 µO·cm) 高于许多金属，但仍然适用于高效的直流溅射。铪还具有中等热导率 (~23 W/m·K)，这意味着它比高导热性金属保留更多的热量，并且受益于靶组件中的良好冷却。在 PVD 中，铪靶用于生产纯 Hf 薄膜或化合物，如氧化铪 (HfO2) 和氮化铪 (HfN)。 HfO2 是一种高 k 电介质，广泛应用于先进半导体、光学镀膜和保护层。HfN 因其硬度高、熔点高和金色金属外观而备受推崇。这些材料用于微电子、硬质镀膜、耐腐蚀层和光学器件。与较软的金属相比，铪靶的溅射产额相对较低，因此沉积速率适中，尤其适用于化合物。高熔点使其能够在更高的功率密度下使用，且不会出现熔化风险，但仍需小心避免应力开裂。金属溅射首选直流或脉冲直流电源，而绝缘氧化层则需要射频电源。摘要：铪是一种坚固的溅射靶材，具有出色的高温稳定性、耐化学性，并能够制备高性能功能涂层，尤其适用于电子、光学和防护应用。备注：建议所有电介质靶材均采用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有脆性和低导热性等不适合溅射的特性。由于这些目标的热导率较低，因此最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，氧化铪 - HfO2 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.99%，白色，金属键合于 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板上。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控 HfO2 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸。其纯度为 99.99%，金属键合于 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板上。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每次购买都兼具经济实惠和卓越品质。我们为每位客户提供大幅折扣，批量订购的客户将享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种较短的交货周期深受我们所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大程度地降低产品过时的风险。从理想真空购买产品意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新的趋势和需求，从而在竞争中保持领先地位。氧化铪 (HfO2) 特性：外观：块状透明至略呈灰白色；薄膜透明；密度：~9.68 g/cm³（对于氧化物而言较高）；晶体结构：室温下为单斜晶系；可以在高温或掺杂下稳定在四方或立方相熔点：~2758°C（优异的热稳定性）热导率：~1.1–1.2 W/m·K（低，保留热量）电气特性：宽带隙（~5.3–5.8 eV），非常高的电阻率（>10¹4 O·cm）折射率：可见光谱中~2.0–2.2（高折射率材料）化学稳定性：化学惰性和耐腐蚀；在氧化环境中稳定在薄膜中的用途HfO2 是一种高性能介电和光学材料，广泛使用 PVD 系统中的射频磁控溅射或脉冲直流溅射沉积。它兼具高折射率、宽带隙和热稳定性，适合用于先进的光学、电子和防护应用。关键应用：光学涂层：抗反射涂层、干涉滤光片、激光光学器件和镜子中的高折射率层微电子：MOSFET 栅极、DRAM 电容器和绝缘层中的高 k 电介质保护涂层：用于光学器件和传感器的耐刮擦和防腐蚀层热和辐射屏障：由于高熔点和在恶劣环境下的稳定性光子器件：需要高折射率对比度的波导、谐振器和集成光学电路摘要：HfO2 因其光学透明度、化学惰性、高介电常数和热稳定性而在薄膜技术中备受推崇，使其成为精密光学器件和下一代半导体器件的最重要材料之一。注意：对于所有介电靶材，建议使用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有不易溅射的特性，例如脆性和低热导热性。由于导热性低，这些目标最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，氟化镁 - MgF2 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.125 英寸，纯度 99.995%，金属结合到 OFHC 铜背板上 Ideal Vacuum Products, LLC。该产品是圆形磁控氟化镁 - MgF2 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.125 英寸。纯度为 99.995%，金属结合到 OFHC（无氧高导电性）铜背板上。我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最优质的产品，让您在每次购买中都能享受到实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额节省。我们库存大量产品，保证客户下订单后当天发货。所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户都喜欢这种较短的交货时间。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本并最大限度地降低过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到他们的产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求来保持领先于竞争对手。氟化镁 - MgF2 氟化镁 - MgF2 因其出色的传输性能和耐用性而成为光学应用中广泛使用的材料。以下是其主要特性的总结：折射率：~1.38（550 nm 时），是一种低折射率材料。透明度范围：MgF2 具有宽透射窗口，可从深紫外线（~120 nm）透射到中红外线（~7 µm），适用于紫外线、可见光和红外线应用。光学涂层：常用于镜头、滤光片和其他光学元件的抗反射涂层和多层光学涂层。耐用性：MgF2 坚硬且化学性质稳定，耐环境降解，适合在恶劣条件下使用。沉积方法：由于其绝缘性质，通常通过射频溅射沉积。MgF2 通常因其宽光学透明度和低折射率而被选择，这使其成为降低各种光学系统中反射率的理想选择。射频与直流溅射：射频溅射通常是溅射纯金属氧化物的首选方法，因为它们是绝缘体，而射频具有交变电场，可防止电荷在目标表面积聚。这种交变场减少了在直流溅射中会引起电弧的电荷积累。沉积速率：较低的沉积速率：在射频溅射中，与直流相比，功率传输到等离子体的效率较低，这主要是由于电场的交变性质。这导致与等效功率条件下的直流溅射相比，沉积速率较低。靶材：对于导电靶材（如反应溅射中的钛），直流溅射具有较高的沉积速率。对于纯金属氧化物等绝缘靶材，必须使用射频溅射，沉积速率通常较低。功率水平：增加功率可以提高射频和直流溅射的沉积速率，但对于导电材料，直流的沉积速率仍然往往较高。压力和气流：通过优化气体压力和流量可以实现更高的沉积速率，射频和直流的最佳条件不同。注意：建议对所有介电靶材使用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有不适合溅射的特性，例如脆性和低热导率。由于这些目标的热导率低，因此最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，氟化镁 - MgF2 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.9%，金属键合至 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控溅射靶，氟化镁 - MgF2，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸。纯度 99.9%，金属键合至 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每次购买都兼具价格优势和卓越品质。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种较短的交货周期深受所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大程度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买产品意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新的趋势和需求，从而在竞争中保持领先地位。氟化镁 - MgF2 氟化镁 - MgF2 因其卓越的透射性能和耐用性，被广泛应用于光学应用。以下是其主要特性的总结：折射率：~1.38（550 nm 时），使其成为低折射率材料。透明范围：MgF2 具有宽透射窗口，可从深紫外（~120 nm）透射到中红外（~7 µm），使其适用于紫外、可见光和红外应用。光学涂层：常用于镜头、滤光片和其他光学元件的抗反射涂层和多层光学涂层。耐用性：MgF2 坚硬且化学性质稳定，耐环境降解，适合在恶劣条件下使用。沉积方法：由于其绝缘性质，通常通过射频溅射沉积。MgF2 通常因其宽光学透明度和低折射率而被选择，使其成为降低各种光学系统中反射率的理想选择。射频与直流溅射：射频溅射通常是溅射纯金属氧化物的首选方法，因为它们是绝缘体，而射频具有交变电场，可防止电荷在目标表面积聚。这种交变场减少了直流溅射中可能引起电弧的电荷积累。沉积速率：较低的沉积速率：在射频溅射中，由于电场的交变特性，功率传输到等离子体的效率低于直流溅射。这导致在同等功率条件下，其沉积速率低于直流溅射。靶材：对于导电靶材（例如反应溅射中的钛），直流溅射具有较高的沉积速率。对于纯金属氧化物等绝缘靶材，必须使用射频溅射，且沉积速率通常较低。功率水平：提高功率可以提高射频和直流溅射的沉积速率，但对于导电材料，直流溅射的沉积速率通常更高。压力和气流：通过优化气压和气流可以实现更高的沉积速率，射频和直流的最佳条件有所不同。注意：建议所有介电靶材都粘合金属或弹性体背板，因为这些材料具有脆性和低导热性等不适合溅射的特性。由于这些目标的热导率较低，因此最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，钼 - Mo 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.95%。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控钼 - Mo 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.95%。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每次购买都兼具价格实惠和卓越品质。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种短交货期深受所有希望通过更快周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大程度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新趋势和需求，从而保持竞争优势。钼 (Mo) 主要特性外观：银灰色，有光泽的过渡金属密度：~10.22 g/cm³晶体结构：体心立方 (BCC)熔点：2623 °C（非常高的热稳定性）沸点：~4639 °C热导率：~138 W/m·K（高，散热性能优异）电阻率：~5.34 µO·cm（良导体，非常适合直流溅射）化学稳定性：良好的耐腐蚀性；在高温下在空气中形成稳定的氧化物 (MoO3)溅射行为：高熔点和良好的热导率允许高功率密度而不会损坏；使用直流或脉冲直流电源进行干净的溅射关键应用：钼是 PVD 溅射中广泛使用的靶材，用于生产具有优异导电性、粘附性和稳定性的薄膜。半导体金属化：TFT 和其他设备中的栅极和互连层透明导电氧化物 (TCO) 背接触：CIGS 太阳能电池下的 Mo 层，用于粘附和导电性阻挡层：微电子中的扩散阻挡层（例如，防止 Cu 迁移）反射和光学涂层：红外反射率高，用于热镜和红外光学坚硬耐磨涂层：机械零件中的保护性金属层粘附层：促进多层堆栈中陶瓷、半导体和其他金属之间的粘附总结钼的高熔点、优异的热/电导率和化学稳定性使其成为 PVD 应用中的电子、光伏、光学和保护涂层的坚固且多功能的薄膜材料。注：所有介电靶材均建议采用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有脆性和低热导率等不利于溅射的特性。由于热导率低，这些靶材最易受到热冲击的影响，因此在启动和关闭阶段可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，镍 - 镍溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.02 英寸，纯度 99.99%。Ideal Vacuum Products, LLC。该产品为圆形磁控镍 - 镍溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.02 英寸。纯度为 99.99%。我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最高质量的产品，让您在每次购买中都能享受到实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额折扣。我们库存大量产品，保证客户下订单后当天发货。这种短交货期深受所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户喜爱。我们的老客户可以保持较低的库存水平，降低仓储成本并最大限度地降低过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新趋势和需求，从而在竞争中保持领先地位。镍 - Ni 镍 (Ni) 溅射靶由于镍的机械、磁性和化学特性而常用于各种工业和技术应用中的薄膜沉积。以下是薄膜中镍溅射靶的简要总结：1. 材料特性：磁性：镍是一种铁磁性材料，这使其可用于数据存储和传感器等磁性薄膜应用。电导率：镍是一种良好的导体，使其适用于电气和微电子应用。耐腐蚀性：镍具有出色的耐腐蚀性，尤其是在轻度腐蚀环境中，使其成为保护涂层的理想选择。2.沉积方法：直流溅射：镍是一种导电材料，通常使用直流磁控溅射进行溅射，这种方法可以实现高效沉积和更高的溅射速率。射频溅射：尽管镍不太常见，但在特殊应用中需要时也可以使用射频溅射。反应溅射：镍可以在反应环境中溅射以形成氧化镍 (NiO) 或其他化合物以供特定用途。3. 应用：微电子：由于镍具有导电性和热稳定性，因此可用于半导体器件中的薄膜电阻器、互连线和触点。磁存储设备：镍是硬盘、磁传感器和自旋电子器件中使用的磁性薄膜的关键材料。保护涂层：镍薄膜通常用作工业和化学加工环境中的耐腐蚀涂层。催化剂：镍薄膜用作某些化学反应的催化剂，尤其是在制氢和燃料电池中。4.薄膜性质：机械强度：镍薄膜具有高强度和对各种基材的良好附着力，适合用作保护涂层。磁性：镍薄膜保留了磁性，是磁性设备和传感器的理想选择。耐腐蚀性：镍薄膜在各种环境中都能有效防止腐蚀和氧化。电导性：镍薄膜具有良好的导电性，在电子和电接触方面很有价值。5.反应沉积：氧化镍（NiO）：镍靶材可在富氧环境中溅射形成氧化镍薄膜，可用于电致变色设备、电池和气体传感器。6.挑战：磁干扰：由于镍是铁磁材料，溅射系统需要特别考虑以避免干扰溅射设备的磁场，尤其是在磁控溅射中。薄膜中的应力：镍膜在沉积过程中可能会产生内应力，这会影响膜的附着力和机械性能。摘要：由于镍具有磁性、导电性和耐腐蚀性，镍 (Ni) 溅射靶广泛用于微电子、磁性设备和保护涂层中的薄膜沉积。镍薄膜通常使用直流溅射应用，可用于电子元件、磁存储介质、保护层和催化。氧化镍 (NiO) 膜也可以通过反应溅射创建，用于特定的功能应用。注意：建议对所有介电靶材料进行金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有不适合溅射的特性，例如脆性和低热导率。由于这些目标的热导率低，因此最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，镍 - 镍溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.95%。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控镍 - 镍溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.95%。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每一次购买都兼具价格实惠和卓越品质。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种短交货期深受所有希望通过更快周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大程度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新趋势和需求，从而保持竞争优势。镍 - Ni 镍 (Ni) 溅射靶材因其机械、磁性和化学特性，常用于各种工业和技术应用中的薄膜沉积。以下是薄膜中镍溅射靶材的简要概述：1. 材料特性：磁性：镍是一种铁磁性材料，这使其可用于数据存储和传感器等磁性薄膜应用。电导率：镍是良好的导体，适用于电气和微电子应用。耐腐蚀性：镍具有出色的耐腐蚀性，尤其是在轻度腐蚀环境中，使其成为防护涂层的理想选择。2.沉积方法：直流溅射：镍是一种导电材料，通常使用直流磁控溅射进行溅射，这种方法可以实现高效沉积和更高的溅射速率。射频溅射：虽然镍不太常见，但在特殊应用中需要时也可以使用射频溅射。反应溅射：镍可以在反应环境中溅射以形成氧化镍 (NiO) 或其他化合物以用于特定用途。3. 应用：微电子：由于镍具有导电性和热稳定性，因此可用于半导体器件中的薄膜电阻器、互连线和触点。磁存储设备：镍是用于硬盘、磁传感器和自旋电子器件的磁性薄膜的关键材料。保护涂层：镍薄膜通常用作工业和化学加工环境中的耐腐蚀涂层。催化剂：镍薄膜用作某些化学反应的催化剂，尤其是在制氢和燃料电池中。4.薄膜特性：机械强度：镍薄膜具有高强度和对各种基材的良好附着力，适用于保护涂层。磁性：镍薄膜保留了其磁性，使其成为磁性设备和传感器的理想选择。耐腐蚀性：镍薄膜在各种环境中都能有效防止腐蚀和氧化。电导性：镍薄膜具有良好的导电性，在电子和电气接触方面很有价值。5. 反应沉积：氧化镍 (NiO)：镍靶可以在富氧环境中溅射形成氧化镍薄膜，可用于电致变色设备、电池和气体传感器。6.挑战：磁干扰：由于镍是铁磁材料，溅射系统需要特别考虑避免干扰溅射设备的磁场，尤其是在磁控溅射中。薄膜应力：镍膜在沉积过程中可能会产生内应力，这会影响薄膜的附着力和机械性能。摘要：由于镍具有磁性、导电性和耐腐蚀性，镍 (Ni) 溅射靶材广泛用于微电子、磁性设备和保护涂层中的薄膜沉积。镍薄膜通常采用直流溅射工艺，可用于电子元件、磁存储介质、保护层和催化领域。氧化镍 (NiO) 薄膜也可以通过反应溅射制备，用于特定的功能应用。备注：建议所有介电靶材均采用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有脆性和低导热性等不适合溅射的特性。由于这些目标的热导率较低，因此最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，铌 - 铌溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.95%。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控铌 - 铌溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.95%。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每一次购买都兼具价格实惠和卓越品质。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户更可享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种短交货期深受所有希望通过更快周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大程度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新趋势和需求，从而在竞争中保持领先地位。铌 - Nb 铌 (Nb) 溅射靶材因其独特的电气、机械和超导特性而被广泛用于薄膜沉积。以下是铌溅射靶材在薄膜中的简要概述：1. 材料特性：高熔点：铌具有高熔点（约 2477°C），适用于高温应用。耐腐蚀性：铌具有抗氧化和腐蚀性能，尤其是在酸性环境中。超导性：铌是超导应用中的关键材料，尤其因为它具有较高的临界温度 (Tc) 和承载大超导电流的能力。电导率：铌是一种导电材料，可用于电子和电气薄膜应用。2.沉积方法：直流溅射：由于铌具有导电性，因此通常使用直流磁控溅射，以提供高效的沉积速率。射频溅射：射频溅射可用于特殊应用或与反应溅射结合使用以形成铌化合物。反应溅射：铌可在反应性气氛（例如，用氧气或氮气）中溅射，以形成氧化铌（Nb2O5）或氮化铌（NbN），用于特定应用。3. 应用：超导薄膜：铌是超导薄膜的关键材料，超导薄膜用于超导量子干涉装置（SQUID）、超导电路和粒子加速器。微电子：铌薄膜由于其优异的导电性和稳定性，可用于电容器、互连线以及用作微电子中的扩散阻挡层。光学涂层：铌用于反射涂层和光学滤光片。反应溅射形成五氧化二铌 (Nb2O5)，用于高折射率光学涂层。保护涂层：铌的耐腐蚀和抗氧化性能使其非常适用于化学加工和高性能应用中的保护涂层。氮化铌 (NbN)：通过反应溅射形成的 NbN 用于超导薄膜、硬质涂层和耐磨层。4. 薄膜特性：超导性：铌薄膜在低温下表现出超导性，这使其成为量子计算和高性能超导电路中必不可少的元件。耐腐蚀性：铌薄膜具有出色的防腐蚀性能，特别是在恶劣环境下，因此可用作保护层和阻挡层。光学特性：氧化铌 (Nb2O5) 薄膜具有高折射率（~2.2），可用于光学涂层。机械强度：铌薄膜坚固耐用，因此适用于需要耐磨性的应用。5.反应沉积：五氧化二铌 (Nb2O5)：Nb2O5 由氧气通过反应溅射形成，由于其高介电常数和光学透明性，可用于光学涂层、电介质和电容器。氮化铌 (NbN)：NbN 薄膜用于超导应用，以及切削刀具和耐磨表面的硬质涂层。6. 挑战：靶中毒：在反应溅射中，可能会发生靶中毒，即非金属化合物（例如氧化物或氮化物）在靶上形成，从而降低溅射效率。内应力：铌薄膜在沉积过程中会产生内应力，这会影响薄膜的机械性能和附着力。摘要：铌 (Nb) 溅射靶广泛用于超导、微电子、光学涂层和保护层等薄膜应用。直流溅射通常用于沉积铌薄膜，而反应溅射则用于形成铌化合物，例如 Nb2O5（光学涂层、电介质）和 NbN（超导薄膜、硬质涂层）。铌薄膜因其超导特性、耐腐蚀性和机械耐久性而受到各行各业的重视。注：建议所有介电靶材均采用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有脆性和低热导率等不适合溅射的特性。由于这些靶材的热导率低，最容易受到热冲击，因此在启动和关闭过程中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，氧化铌 - Nb2O5 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.125 英寸，纯度 99.995%，金属结合到 OFHC 铜背板上。Ideal Vacuum Products, LLC。该产品是圆形磁控氧化铌 - Nb2O5 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.125 英寸。纯度为 99.995%，金属结合到 OFHC（无氧高导电性）铜背板上。我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最优质的产品，让您在每次购买中都能享受到实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额节省。我们库存大量产品，保证客户下订单后当天发货。所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户都喜欢这种较短的交货时间。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大限度地降低过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到他们的产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求来保持领先于竞争对手。氧化铌 - Nb2O5氧化铌 (Nb2O5) 具有出色的光学、介电和催化性能，是一种有价值的薄膜材料。以下是其主要特性的摘要：1. 折射率：折射率：~2.2 至 2.4（550 nm 时），使其成为高折射率材料。其高折射率使其成为光学涂层的理想选择，尤其是在多层结构中，如抗反射涂层、光学滤光片和波导。2.光学透明度：透射窗口：Nb2O5 在可见光至红外范围（~400 nm 至 5 µm）内透明，适用于各种光学应用。它通常用于透镜、镜子和光子器件的光学涂层。3. 介电性能：高介电常数：Nb2O5 具有高介电常数（20-40），可用于电容器、存储设备和其他需要高电容的电子元件。它还用作薄膜晶体管中的栅极介电材料。4. 化学和热稳定性：Nb2O5 化学稳定且耐腐蚀。它在高温下具有出色的稳定性，使其成为在苛刻环境中使用的薄膜的可靠材料。其热稳定性确保其在高温应用中的性能。5. 机械性能：Nb2O5 坚硬耐用，为薄膜涂层提供出色的机械强度，可用于保护涂层和耐磨层。6.沉积方法：Nb2O5 薄膜可以使用各种技术沉积，包括射频溅射、反应溅射（使用铌金属和氧气）、热蒸发和电子束蒸发。它还可以通过原子层沉积 (ALD) 沉积以获得高精度薄膜。7. 应用：光学涂层：由于其高折射率和透明度，可用于抗反射涂层、光学滤波器和波导。微电子：Nb2O5 用于电容器、薄膜晶体管，并作为半导体器件中的高 k 介电材料。催化：Nb2O5 还因其催化性能而闻名，并用于光催化和燃料电池等应用。保护涂层：在工业应用中提供出色的耐磨性和防腐保护。摘要：五氧化二铌 (Nb2O5) 是一种高折射率材料，具有出色的光学和介电性能，使其成为光学涂层和电子应用的热门选择。其化学稳定性、介电常数和高透明度使其适用于各种薄膜应用，包括电容器、防反射涂层和光子设备。注意：建议对所有介电靶材使用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有不易溅射的特性，例如脆性和低热导率。这些靶材由于导热性低，最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

理想真空圆形磁控溅射靶，五氧化二铌（Nb2O5）溅射靶，直径3英尺 x 厚度0.25英寸，纯度99.99%，金属键合至0.125英寸OFHC铜背板。理想真空产品有限责任公司。本产品为圆形磁控管五氧化二铌（Nb2O5）溅射靶，直径 3 英尺，厚度 0.25 英寸。其纯度为 99.99%，并与 OFHC（无氧高导）铜背板进行金属键合。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每一次购买都兼具价格实惠和卓越品质。我们为每位客户提供大幅折扣，批量订购的客户更可享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种短交货期深受所有希望通过更快周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以保持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大程度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买产品意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新的趋势和需求，在竞争中保持领先地位。铌氧化物 - Nb2O5 氧化铌 (Nb2O5) 因其优异的光学、介电和催化性能，是一种宝贵的薄膜材料。以下是其主要特性概述：1. 折射率：折射率：约 2.2 至 2.4（550 nm 时），使其成为一种高折射率材料。其高折射率使其成为光学镀膜的理想选择，尤其是在多层结构（例如抗反射镀膜、光学滤光片和波导）中。2. 光学透明度：透射窗口：Nb2O5 在可见光至红外波段（约 400 nm 至 5 µm）内均透明，适用于各种光学应用。它常用于透镜、镜子和光子器件的光学镀膜。3. 介电性能：高介电常数：Nb2O5 具有高介电常数（20-40），这使其可用于电容器、存储器件和其他需要高电容的电子元件。它也可用作栅极介电材料。薄膜晶体管。4. 化学和热稳定性：Nb2O5 化学性质稳定，耐腐蚀。它在高温下具有出色的稳定性，使其成为在严苛环境下使用的可靠薄膜材料。其热稳定性确保了其在高温应用中的性能。5. 机械性能：Nb2O5 坚硬耐用，为薄膜涂层提供出色的机械强度，可用于保护涂层和耐磨层。6. 沉积方法：Nb2O5 薄膜可以使用多种技术沉积，包括射频溅射、反应溅射（使用铌金属和氧气）、热蒸发和电子束蒸发。它还可以通过原子层沉积 (ALD) 沉积以获得高精度薄膜。7. 应用：光学涂层：由于其高折射率和透明度，可用于抗反射涂层、光学滤波器和波导。微电子学：Nb2O5 用于电容器、薄膜晶体管和高 k半导体器件中的介电材料。催化：五氧化二铌 (Nb2O5) 也因其催化特性而闻名，并用于光催化和燃料电池等应用。保护涂层：在工业应用中提供出色的耐磨性和防腐保护。摘要：五氧化二铌 (Nb2O5) 是一种高折射率材料，具有出色的光学和介电特性，使其成为光学涂层和电子应用的热门选择。其化学稳定性、介电常数和高透明度使其适用于各种薄膜应用，包括电容器、抗反射涂层和光子器件。注意：建议所有介电靶材均采用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有脆性和低导热性等不易溅射的特性。由于导热性低，这些靶材最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，硅 - Si（未掺杂）溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.125 英寸，纯度 99.999%，金属结合到 OFHC 铜背板上。Ideal Vacuum Products, LLC。该产品是圆形磁控硅 - Si（未掺杂）溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.125 英寸。纯度为 99.999%，金属结合到 OFHC（无氧高导电性）铜背板上。我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最优质的产品，让您在每次购买中都能享受到实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额节省。我们库存大量产品，保证客户下订单后当天发货。所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户都喜欢这种较短的交货时间。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大限度地降低过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到他们的产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求来保持竞争优势。硅 - Si（未掺杂）硅 - Si（未掺杂）：未掺杂的硅 (Si) 溅射靶广泛用于各种行业的薄膜沉积，特别是在半导体、光电子和太阳能电池中。以下是其主要特征的摘要：1. 材料特性：电导率：未掺杂的硅是一种在室温下电导率相对较低的半导体。在电导率很重要的应用中，它需要小心处理，尽管它在高温下会导电。纯度：高纯度未掺杂硅靶通常用于半导体应用，电子级材料的纯度通常超过 99.99% 甚至 99.999%。晶体结构：硅靶可以是非晶态、多晶态或单晶态。结构的选择会影响薄膜的特性，单晶硅可为薄膜应用提供出色的电气特性。> 2. 沉积方法：射频溅射：由于未掺杂硅是半导体，因此通常使用射频溅射进行薄膜沉积。这是必要的，因为直流溅射会导致靶上电荷积聚，使其对非导电或半导体材料（如未掺杂硅）效率低下。薄膜质量：使用未掺杂的硅靶沉积的薄膜可以高度均匀，并且常用于制造半导体、光学涂层和光伏电池。> 3. 应用：微电子：未掺杂的硅溅射靶对于制造集成电路、晶体管和其他半导体器件中的薄膜至关重要。太阳能电池：未掺杂的硅（特别是非晶硅或微晶硅）薄膜用于太阳能电池的能量转换。光电子：硅膜用于红外探测器、光电探测器和 MEMS 器件。钝化层：在半导体器件制造中，硅膜用作钝化层或随后掺杂或氧化的基础材料。> 4. 薄膜特性：电学特性：由未掺杂的硅靶制成的硅膜是本征半导体，这意味着除非掺杂或暴露于外部因素（例如温度或光），否则它们的电导率很低。光学特性：未掺杂的硅薄膜在可见光谱中不透明，但在红外线中透明，因此适用于红外光学和光子应用。> 5. 挑战：电荷累积：作为半导体，由于靶材上电荷累积，未掺杂的硅无法使用直流方法有效溅射，因此射频溅射对于确保均匀沉积至关重要。靶材质量：必须严格控制硅靶材的纯度和晶体结构，以避免沉积薄膜出现缺陷，尤其是对于高性能半导体和光学应用。> 摘要：未掺杂的硅溅射靶材主要用于半导体、太阳能电池和光电子学。由于其半导体性质，通常采用射频溅射来避免靶材上电荷累积。未掺杂硅制成的薄膜因其电、光和机械特性而被广泛使用，应用范围从集成电路到红外光学。注意：建议对所有介电靶材使用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有不易溅射的特性，例如易碎和低热导率。这些靶材由于热导率低，最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum Products, LLC. 圆形磁控溅射靶，硅 - Si（未掺杂）溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.99%，金属键合于 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板上。本产品为圆形磁控硅 - Si（未掺杂）溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸。其纯度为 99.99%，金属键合于 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板上。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每次购买都兼具价格优势和卓越品质。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种较短的交货周期深受我们所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大程度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买产品意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新趋势和需求，从而在竞争中保持领先地位。硅 - Si（未掺杂）硅 - Si（未掺杂）：未掺杂硅 (Si) 溅射靶材广泛用于各行各业的薄膜沉积，尤其是在半导体、光电子和太阳能电池领域。以下是其主要特性的总结：1. 材料特性：电导率：未掺杂硅是一种在室温下电导率相对较低的半导体。在对电导率要求较高的应用中，需要小心处理，尽管它在高温下会恢复导电性。纯度：高纯度未掺杂硅靶材常用于半导体应用，电子级材料的纯度通常超过 99.99%，甚至高达 99.999%。晶体结构：硅靶材可以是非晶态、多晶态或单晶态。结构的选择会影响薄膜的性能，单晶硅可为薄膜应用提供优异的电气特性。> 2. 沉积方法：射频溅射：由于未掺杂硅是半导体，因此通常使用射频溅射进行薄膜沉积。这是必要的，因为直流溅射会导致靶材上电荷积聚，对于非导电或半导体材料（例如未掺杂硅）而言，其效率低下。薄膜质量：使用未掺杂的硅靶沉积的薄膜可以高度均匀，并且通常用于制造半导体、光学涂层和光伏电池。> 3. 应用：微电子：未掺杂的硅溅射靶对于制造集成电路、晶体管和其他半导体器件中的薄膜至关重要。太阳能电池：未掺杂的硅薄膜（特别是非晶硅或微晶硅）用于太阳能电池的能量转换。光电子：硅薄膜用于红外探测器、光电探测器和 MEMS 器件。钝化层：在半导体器件制造中，硅膜用作钝化层或作为后续掺杂或氧化的基础材料。> 4. 薄膜特性：电学特性：由未掺杂的硅靶制成的硅膜是本征半导体，这意味着除非掺杂或暴露于外部因素（例如温度或光），否则它们的电导率较低。光学特性：未掺杂的硅薄膜在可见光谱中不透明，但在红外光谱中透明，因此适用于红外光学和光子应用。> 5. 挑战：电荷积聚：作为半导体，由于靶材上电荷积聚，未掺杂的硅无法使用直流方法进行有效溅射，因此射频溅射对于确保均匀沉积至关重要。靶材质量：必须严格控制硅靶材的纯度和晶体结构，以避免沉积薄膜出现缺陷，尤其是在高性能半导体和光学应用中。> 摘要：未掺杂的硅溅射靶材主要用于半导体、太阳能电池和光电子器件。由于其半导体特性，通常采用射频溅射来避免靶材上电荷积聚。由未掺杂硅制成的薄膜因其电学、光学和机械特性而被广泛应用，涵盖从集成电路到红外光学等领域。注意：所有介电靶材均建议采用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有不易溅射的特性，例如脆性和低热导率。由于热导率低，这些靶材最容易受到热冲击，因此在启动和关闭阶段可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，二氧化硅 - SiO2 溅射靶，3' 直径 x 0.125" 厚，99.995% 纯度，与 OFHC 铜背板金属结合。Ideal Vacuum Products, LLC。该产品为圆形磁控二氧化硅 - SiO2 溅射靶，直径 3' x 厚度 0.125"。纯度为 99.995%，与 OFHC（无氧高导电性）铜背板金属结合。我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最优质的产品，让您在每次购买中都能享受到实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额折扣。我们库存大量产品，保证客户下订单后当天发货。所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户都喜欢这种较短的交货时间。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大限度地降低过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到他们的产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求来保持竞争优势。二氧化硅 - SiO2 二氧化硅 (SiO2) 是薄膜涂层中最常用的材料之一，因为它具有出色的光学、介电和保护性能。以下是薄膜中 SiO2 的简要总结：1. 折射率：折射率：~1.45（550 nm 时），使其成为低折射率材料。它广泛用于光学涂层，例如抗反射涂层和介电镜，这些涂层需要低折射率层。2.光学透明度：透射窗口：SiO2 具有广泛的透明度范围，从紫外线 (UV)（~160 nm）到红外线 (IR)（~2.5 µm）。这使其成为可见光、紫外线和红外线光谱范围内涂层的理想材料。3. 介电性能：低介电常数：SiO2 具有相对较低的介电常数（~3.9），这使其可用作微电子和半导体中的绝缘层。它在 MOSFET 等设备中充当有效的介电屏障。4. 化学和热稳定性：SiO2 具有化学惰性，使其具有很强的耐腐蚀和抗氧化性。它具有出色的热稳定性，使其能够在各种应用中承受高温。5. 机械性能：SiO2 坚硬且具有良好的耐磨性，使其成为薄膜涂层中的保护材料。但是，它很脆，在涉及机械应力的应用中必须小心。6.沉积方法：SiO2 薄膜可以使用各种技术沉积，包括射频溅射、化学气相沉积 (CVD)、热蒸发和电子束沉积。射频溅射通常用于 SiO2 的薄而均匀的涂层。7. 应用：光学涂层：SiO2 广泛用于抗反射涂层、高/低折射率多层涂层以及光学保护涂层。微电子：SiO2 用作集成电路中的绝缘层、钝化层以及 MOSFET 中的栅极氧化物。保护涂层：由于其化学稳定性和硬度，SiO2 可用于保护和耐磨涂层。阻挡层：SiO2 可用作各种应用中的扩散阻挡层和防潮层。摘要：SiO2 是一种低折射率材料，具有广泛的光学透明度、出色的介电性能和强大的化学稳定性，使其在光学涂层、电子产品和保护层中用途广泛。其耐用性和宽传输范围是其广泛应用于各行业薄膜的关键因素。注意：建议对所有介电靶材使用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有不易溅射的特性，例如脆性和低热导率。这些靶材由于热导率低，最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，二氧化硅 - SiO2 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.99%，金属键合至 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控二氧化硅 - SiO2 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸。其纯度为 99.99%，金属键合至 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每次购买都兼具价格优势和卓越品质。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种较短的交货周期深受我们所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大限度地减少产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新趋势和需求，从而保持竞争优势。二氧化硅 - SiO2 二氧化硅 (SiO2) 因其优异的光学、介电和防护性能，是薄膜涂层中最常用的材料之一。以下是薄膜中 SiO2 的简要概述：1. 折射率：折射率：~1.45（550 nm 时），使其成为一种低折射率材料。它广泛用于光学涂层，例如抗反射涂层和介质镜，这些涂层需要低折射率层。2.光学透明度：透射窗口：SiO2 具有很宽的透明度范围，从紫外线 (UV)（~160 nm）到红外线 (IR)（~2.5 µm）。这使其成为可见光、紫外线和红外线光谱范围涂层的理想材料。3. 介电性能：低介电常数：SiO2 具有相对较低的介电常数（~3.9），这使其可用作微电子和半导体中的绝缘层。它在 MOSFET 等器件中充当有效的介电屏障。4. 化学和热稳定性：SiO2 具有化学惰性，因此具有很强的耐腐蚀和氧化性。它具有出色的热稳定性，可以在各种应用中承受高温。5. 机械性能：SiO2 坚硬且具有良好的耐磨性，使其成为薄膜涂层中的保护材料。然而，它很脆，在涉及机械应力的应用中必须小心。6。沉积方法：SiO2 薄膜可以使用各种技术沉积，包括射频溅射、化学气相沉积 (CVD)、热蒸发和电子束沉积。射频溅射通常用于沉积薄而均匀的 SiO2 涂层。7. 应用：光学涂层：SiO2 广泛用于抗反射涂层、高/低折射率多层涂层以及光学保护涂层。微电子：SiO2 用作集成电路中的绝缘层、钝化层以及 MOSFET 中的栅极氧化物。保护涂层：由于其化学稳定性和硬度，SiO2 可用于保护和耐磨涂层。阻挡层：SiO2 可在各种应用中用作有效的扩散阻挡层和防潮层。摘要：SiO2 是一种低折射率材料，具有宽的光学透明度、优异的介电性能和强的化学稳定性，使其在光学涂层、电子器件和保护层中用途广泛。其耐用性和宽透射范围是其广泛应用于各行各业薄膜的关键因素。注意：所有介电靶材均建议采用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有脆性和低热导率等不利于溅射的特性。由于热导率低，这些靶材最容易受到热冲击，因此在启动和关闭过程中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，一氧化硅 - SiO 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.99%，金属键合于 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板上。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控一氧化硅 - SiO 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸。其纯度为 99.99%，金属键合于 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板上。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每次购买都兼具价格优势和卓越品质。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种较短的交货周期深受所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大程度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买产品意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求在竞争中保持领先地位。一氧化硅 - SiO 外观：棕色至黑色非晶态或晶体固体（薄层透明）密度：~2.13–2.27 g/cm³晶体结构：非晶态或亚稳态晶体（高温下不稳定；在空气中温度高于~400°C时，倾向于与 Si 和 SiO2 不成比例）熔点：~1275°C沸点：~1880°C（在真空中易升华）电学特性：绝缘（电阻率通常 >10¹4 O·cm）光学特性：高折射率（~1.9–2.0），从可见光到近红外透明化学稳定性：在真空中稳定；随着时间的推移，在空气中氧化形成 SiO2溅射行为：脆性陶瓷靶材；由于其绝缘特性，需要射频溅射或脉冲直流电。薄膜用途：一氧化硅主要通过溅射工艺制备光学和保护涂层，通常通过物理气相沉积 (PVD) 系统中的射频磁控溅射沉积而成。其高折射率和透明度使其在光学设计中具有重要价值，同时其化学反应性可用于特定的薄膜结构。主要应用：光学涂层：抗反射叠层、分束器和干涉滤光片中的高折射率层；阻隔层：电子和包装中的水分和气体扩散阻隔层；保护涂层：光学元件和显示器表面的防刮层；半导体加工：基板与其他氧化物之间的过渡层或附着力促进剂；装饰涂层：建筑玻璃和消费品中的透明或半透明彩色薄膜。摘要：SiO 因其光学性能、化学多功能性以及在相对较低的基板温度下易于沉积而备受重视。然而，需要仔细控制溅射参数，以防止薄膜氧化为 SiO2 或分解为单质硅。注：所有介电靶材均建议采用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有脆性和低热导率等不利于溅射的特性。由于热导率低，这些靶材最易受到热冲击的影响，因此在启动和关闭阶段可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，氮化硅 - Si3N4 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.125 英寸，纯度 99.5%，金属结合到 OFHC 铜背板上 Ideal Vacuum Products, LLC。该产品为圆形磁控氮化硅 - Si3N4 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.125 英寸。纯度为 99.5%，金属结合到 OFHC（无氧高导电性）铜背板上。我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最优质的产品，让您在每次购买中都能享受到实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额折扣。我们库存大量产品，保证客户下订单后当天发货。所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户都喜欢这种较短的交货时间。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本并最大限度地降低过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到他们的产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求来保持领先于竞争对手。氮化硅 - Si3N4氮化硅 - Si3N4 是一种多功能材料，由于其机械、化学和光学特性，可用于各种应用的薄膜涂层。以下是其在薄膜方面的主要特性的总结：折射率：~1.9 至 2.0（550 nm 时），使其成为常用于多层光学涂层的中等折射率材料。光学特性：Si3N4 在可见光到红外范围（~250 nm 至 8 µm）具有出色的透明度，使其适用于抗反射涂层、波导和光子学。机械特性：它坚硬、耐磨且具有很高的热稳定性，使其成为需要耐用性和耐环境性的涂层的理想选择。化学稳定性：Si3N4 具有化学惰性，具有良好的耐腐蚀性，可用于保护涂层。沉积方法：Si3N4 可以通过 RF 或反应溅射（使用含氮的硅靶）以及 PECVD（等离子增强化学气相沉积）沉积。应用：由于其绝缘性能和充当扩散的能力，它常用于光学涂层、半导体器件、保护涂层和微电子屏障。Si3N4 因其光学性能和机械强度的结合而受到重视，使其可用于功能性和保护性薄膜涂层。射频与直流溅射：射频溅射通常是溅射纯金属氧化物的首选方法，因为它们是绝缘体，而射频具有交变电场，可防止目标表面电荷积聚。这种交变场减少了电荷积累，否则会在直流溅射中引起电弧。沉积速率：较低的沉积速率：在射频溅射中，与直流相比，功率传输到等离子体的效率较低，这主要是由于电场的交变性质。这导致与等效功率条件下的直流溅射相比，沉积速率较低。靶材：对于导电靶（如反应溅射中的钛），直流溅射具有更高的沉积速率。对于纯金属氧化物等绝缘靶材，必须使用射频溅射，沉积速率通常较低。功率水平：增加功率可以提高射频和直流溅射的沉积速率，但对于导电材料，直流的沉积速率仍然更高。压力和气流：通过优化气体压力和流量可以实现更高的沉积速率，射频和直流的最佳条件不同。注意：建议对所有介电靶材使用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有不适合溅射的特性，例如脆性和低热导率。这些靶材由于导热性低，最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，氮化硅 - Si3N4 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.99%，金属键合至 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控氮化硅 - Si3N4 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸。其纯度为 99.99%，金属键合至 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每次购买都兼具价格优势和卓越品质。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种较短的交货周期深受所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大程度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买产品意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新的趋势和需求，从而在竞争中保持领先地位。氮化硅 - Si3N4氮化硅 - Si3N4 是一种用途广泛的材料，因其机械、化学和光学特性，可用于各种应用的薄膜涂层。以下是其在薄膜背景下的主要特性的总结：折射率：~1.9 至 2.0（550 nm 时），使其成为常用于多层光学涂层的中等折射率材料。光学特性：Si3N4 在可见光到红外范围（~250 nm 至 8 µm）具有出色的透明度，使其适用于抗反射涂层、波导和光子学。机械特性：它坚硬、耐磨且具有很高的热稳定性，使其成为需要耐用性和耐环境性的涂层的理想选择。化学稳定性：Si3N4 具有化学惰性，具有良好的耐腐蚀性，可用于保护涂层。沉积方法：Si3N4 可以通过 RF 或反应溅射（使用含氮的硅靶）以及 PECVD（等离子增强化学气相沉积）沉积。应用：由于其绝缘性能和充当扩散的能力，它通常用于光学涂层、半导体器件、保护涂层和微电子势垒。Si3N4 因其光学性能和机械强度的结合而受到重视，这使其可用于功能性和保护性薄膜涂层。射频与直流溅射：射频溅射通常是溅射纯金属氧化物的首选方法，因为它们是绝缘体，而射频具有交变电场，可防止电荷在靶表面积聚。这种交变场减少了电荷积聚，否则会在直流溅射中引起电弧。沉积速率：较低的沉积速率：在射频溅射中，与直流相比，功率向等离子体的传输效率较低，这主要是由于电场的交变性质。这导致在等效功率条件下与直流溅射相比沉积速率较低。靶材：对于导电靶（如反应溅射中的钛），直流溅射具有更高的沉积速率。对于纯金属氧化物等绝缘靶材，必须使用射频溅射，且沉积速率通常较低。功率水平：提高功率可以提高射频和直流溅射的沉积速率，但对于导电材料，直流溅射的沉积速率仍然更高。压力和气体流量：通过优化气体压力和流量可以实现更高的沉积速率，射频和直流的最佳条件有所不同。注意：建议所有介电靶材均采用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有脆性和低导热性等不易溅射的特性。由于这些靶材导热性低，最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，钽-钽溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.95%。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控钽-钽溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.95%。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每一次购买都兼具价格实惠和卓越品质。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户更可享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种短交货期深受所有希望通过更快周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大程度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新趋势和需求，从而在竞争中保持领先地位。钽 - Ta 钽 (Ta) 溅射靶材因其优异的机械、化学和电气性能而被广泛应用于各种高科技行业的薄膜沉积。以下是钽溅射靶材在薄膜中的简要概述：1. 材料特性：高熔点：钽具有极高的熔点（约 3017°C），使其在高温条件下保持稳定。耐腐蚀性：钽具有化学惰性，并且高度耐酸腐蚀，使其成为保护层和阻挡层的理想选择。延展性和强度：钽既坚固又具有延展性，可以形成耐用的薄膜。电导率：钽是一种导电材料，适用于电气和微电子应用。2.沉积方法：直流溅射：由于钽具有导电性，因此直流溅射常用于薄膜沉积，与射频溅射相比，直流溅射可实现更高的沉积速率。射频溅射：必要时也可使用射频溅射，尤其是在复杂的沉积装置中，但直流溅射更常用于钽沉积。反应溅射：钽常用于反应溅射，以形成钽化合物，例如五氧化二钽 (Ta2O5)，用于特定应用。3. 应用：微电子：钽广泛用于半导体和集成电路制造。薄钽膜用作铜互连中的阻挡层，以防止铜扩散到硅或其他层中。电容器：钽薄膜用于钽电容器，它们提供高电容和可靠性，特别是在小型设备中。保护涂层：由于其优异的耐腐蚀性，钽被用作恶劣化学环境中的保护涂层，包括化学加工工业和生物医学植入物。光学涂层：钽因其机械强度和耐用性而用于一些光学涂层，尽管它在光学中的主要用途来自 Ta2O5 .4 等化合物。薄膜特性：机械强度：钽薄膜可提供坚固、耐磨的涂层，可用于防护应用。耐腐蚀和抗氧化：钽薄膜可抗氧化和腐蚀，适用于高性能环境。阻挡层：钽通常用作微电子系统中的扩散阻挡层，以防止金属迁移（例如铜）并延长器件寿命。电导率：钽的导电性使其成为电子电路和元件（例如电阻器、电极和薄膜晶体管）的理想选择。5. 反应沉积：五氧化二钽 (Ta2O5)：钽通常在与氧气的反应环境中溅射以形成 Ta2O5 薄膜，由于其高介电常数和光学透明性，这种薄膜可用于光学涂层和介电层。6.挑战：靶中毒：在反应溅射工艺中，当非金属化合物（例如氧化物）在钽靶上形成时，可能会发生靶中毒，从而降低溅射效率。薄膜应力：钽膜在沉积过程中会产生内应力，这可能会影响薄膜的附着力和性能。摘要：钽 (Ta) 溅射靶因其高耐腐蚀性、导电性和机械耐久性而主要用于微电子、保护涂层和电容器。钽薄膜对于集成电路中的阻挡层、铜互连中的扩散阻挡层以及电容器电极至关重要。直流溅射通常用于高效沉积，而反应溅射可以形成 Ta2O5 等钽化合物，这些化合物广泛用于光学涂层和电介质。注意：建议所有电介质靶材料都采用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有脆性和低导热性等不适合溅射的特性。由于这些目标的热导率较低，因此最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，氧化钽- Ta2O5 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.125 英寸，纯度 99.995%，金属结合到 OFHC 铜背板上。Ideal Vacuum Products, LLC。该产品是圆形磁控氧化钽- Ta2O5 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.125 英寸。纯度为 99.995%，金属结合到 OFHC（无氧高导电性）铜背板上。我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最优质的产品，让您在每次购买中都能享受到实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额节省。我们库存大量产品，保证客户下订单后当天发货。所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户都喜欢这种较短的交货时间。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大限度地降低过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到他们的产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求保持领先于竞争对手。氧化钽 - Ta2 O5五氧化二钽五氧化二钽 (Ta2O5) 是一种由钽和氧组成的无机化合物。它是一种白色结晶粉末，以其高折射率、优异的化学稳定性和介电性能而闻名。Ta2O5 因其独特的性能组合而广泛应用于光学和电子应用。五氧化二钽 (Ta2O5) 因其出色的光学、电子和介电性能而广泛用于薄膜涂层。其多功能性和形成稳定、高质量薄膜的能力使其成为各种高性能应用的理想选择：1. 高折射率涂层：Ta2O5 用于镜头、镜子和滤光片的多层光学涂层。其高折射率有助于形成精确的抗反射和高反射涂层。2. 抗反射涂层：与低折射率材料结合使用，可产生抗反射涂层，以增强镜头和显示器的透光率。3. 阻挡层：用作多层结构中防止氧化和腐蚀的保护层。4. 电光和光子设备：五氧化二钽独特的高折射率（550 nm 时约为 2.1 至 2.2）、介电强度和化学稳定性使其成为光学、电子和光子薄膜涂层中不可或缺的材料，有助于开发高性能设备和系统。沉积方法：Ta2O5 薄膜可使用射频溅射、反应溅射（使用钽和氧气）和电子束蒸发进行沉积。它还使用原子层沉积 (ALD) 进行沉积，以便在微电子领域获得精确的保形涂层。注意：建议对所有介电靶材使用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有不适合溅射的特性，例如脆性和低热导率。这些靶材由于其低热导率而最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤期间可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，氧化钽 - Ta2O5 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.99%，金属键合至 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控溅射靶，氧化钽 - Ta2O5 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸。纯度 99.99%，金属键合至 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每次购买都兼具价格优势和卓越品质。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种较短的交货周期深受所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大程度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新趋势和需求，在竞争中保持领先地位。五氧化二钽 - Ta2O5五氧化二钽五氧化二钽 (Ta2O5) 是一种由钽和氧组成的无机化合物。它是一种白色结晶粉末，以其高折射率、优异的化学稳定性和介电性能而闻名。Ta2O5 因其独特的性能组合而被广泛应用于光学和电子应用。五氧化二钽 (Ta2O5) 因其卓越的光学、电子和介电性能而被广泛用于薄膜涂层。其多功能性以及形成稳定、高质量薄膜的能力使其成为各种高性能应用的理想选择：1. 高折射率涂层：五氧化二钽 (Ta2O5) 用于透镜、镜子和滤光片的多层光学涂层。其高折射率有助于形成精确的抗反射和高反射涂层。2. 抗反射涂层：与低折射率材料结合使用，可生产抗反射涂层，从而增强透镜和显示器的透光率。3. 阻挡层：用作多层结构中防止氧化和腐蚀的保护层。4. 电光和光子器件：五氧化二钽独特的高折射率（550 nm 时约为 2.1 至 2.2）、介电强度和化学稳定性使其成为光学、电子和光子学薄膜涂层中不可或缺的材料，有助于开发高性能器件和系统。沉积方法：Ta2O5 薄膜可采用射频溅射、反应溅射（使用钽和氧气）和电子束蒸发沉积。此外，它还可采用原子层沉积 (ALD) 技术沉积，用于微电子领域获得精确的保形涂层。备注：所有介电靶材均建议采用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有脆性和低热导率等不利于溅射的特性。由于这些靶材的热导率低，最容易受到热冲击的影响，因此在启动和关闭过程中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，钛 - 钛溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.99%。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控钛 - 钛溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.99%。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每一次购买都兼具价格实惠和卓越品质。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户更可节省更多。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种快速的交货周期深受所有希望通过更快周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大程度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新趋势和需求，从而保持竞争优势。钛 - Ti 钛 (Ti) 溅射靶材因其优异的机械、化学和物理性能而被广泛用于薄膜沉积。以下是薄膜中钛溅射靶材的总结：1. 材料特性：高强度重量比：钛以其重量轻和机械强度高而闻名，使其成为需要耐用性且不增加太多质量的薄膜的理想选择。耐腐蚀性：钛具有很强的耐腐蚀性，特别是在海水和酸性条件等恶劣环境中。生物相容性：钛具有生物相容性，这使其适用于医疗器械和生物医学涂层。2.沉积方法：直流溅射：钛是一种导电材料，因此直流磁控溅射通常用于高效薄膜沉积。射频溅射：射频溅射可用于需要反应溅射或更复杂薄膜结构的情况。反应溅射：钛通常在反应气体（例如氧气或氮气）存在下进行溅射，以形成二氧化钛 (TiO2) 和氮化钛 (TiN) 等钛化合物。3. 应用：微电子：钛用于半导体器件中的扩散阻挡层、粘附层和电触点。它形成的薄膜有助于防止集成电路中的金属扩散。光学镀膜：钛用于光学镀膜，尤其是抗反射镀膜，作为耐用的保护层。二氧化钛 (TiO2) 是一种高折射率材料，常用于多层光学涂层。保护涂层：钛薄膜通常用于航空航天、汽车和化学工业中的耐腐蚀和耐磨涂层。医疗应用：由于其生物相容性，钛用于植入物、假肢和医疗器械的薄膜中，以提高其耐用性和与生物组织的相互作用。催化：钛基薄膜（如 TiO2）用于光催化，特别是在空气和水净化等环境应用中。4.薄膜特性：机械强度：钛薄膜以其耐用性和强度而闻名，具有耐磨性和机械保护性。耐腐蚀性：钛薄膜具有很强的耐腐蚀性，非常适合在海洋环境和其他腐蚀性化学条件下使用。附着力：钛薄膜通常用作粘附层，以改善其他涂层的粘合性，特别是在那些天然粘合性不好的材料上。光学特性：通过反应溅射形成的二氧化钛（TiO2）薄膜在可见光范围内高度透明，并具有高折射率（~2.5），适用于光学涂层。5.反应沉积：二氧化钛（TiO2）：在氧气环境中通过反应溅射形成的TiO2因其透明度和高折射率而用于光学涂层、太阳能电池和光催化剂。氮化钛（TiN）：通过在氮气气氛中溅射钛形成，TiN用于硬质涂层、耐磨表面和微电子中的导电薄膜。6.挑战：氧化：钛具有反应性，必须小心控制氧化状态，尤其是在反应性环境中沉积时（例如，在不过度氧化薄膜的情况下形成 TiO2）。薄膜应力：钛薄膜在沉积过程中会产生内应力，这可能会影响薄膜的附着力和机械性能。摘要：钛 (Ti) 溅射靶材因其高强度、耐腐蚀性和生物相容性而广泛应用于微电子、光学镀膜、保护层和医疗器械领域。直流溅射通常用于钛沉积，而反应溅射则可以形成 TiO2 和 TiN 等钛化合物，这些化合物可用于光学、光催化和硬质涂层。钛薄膜在众多行业中都具有出色的机械强度、耐腐蚀性和附着力。备注：建议所有介电靶材都使用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有脆性和低导热性等不适合溅射的特性。由于这些目标的热导率较低，因此最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，氧化钛 - TiO2 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.99% - 白色，金属键合于 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板上。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控 TiO2 溅射靶（白色），直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸。其纯度为 99.99%，金属键合于 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板上。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最优质的产品，让您的每次购买都兼具价格优势和卓越品质。我们为每位客户提供大幅折扣，批量订购的客户将享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种较短的交货周期深受我们所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大限度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买产品意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新的趋势和需求，从而在竞争中保持领先地位。二氧化钛二氧化钛 (TiO2) 是一种白色结晶化合物，因其高折射率和稳定性而广泛使用。它主要有三种形态：金红石、锐钛矿和板钛矿。由于其优异的不透明度和亮度，TiO2 主要用作油漆、涂料和塑料中的颜料。二氧化钛（白色）主要用于光学涂层，主要是因为其高折射率，使其成为抗反射、干涉和高反射率涂层的理想选择。它用于多层光学设计，例如介质镜和滤光片，以增强特定波长范围内的反射率或透射率。它在可见光到近红外光谱中的稳定性和透明度也使其适用于需要精确光控制和高光学质量的镜头、分束器和保护涂层。射频与直流溅射：射频溅射通常是溅射纯金属氧化物的首选方法，因为它们是绝缘体，而射频具有交变电场，可防止电荷在目标表面积聚。这种交变场减少了电荷积聚，否则会在直流溅射中引起电弧。沉积速率：较低的沉积速率：在射频溅射中，与直流相比，功率传输到等离子体的效率较低，这主要是由于电场的交变性质。这导致在等效功率条件下与直流溅射相比沉积速率较低。靶材：对于导电靶（如反应溅射中的钛），直流溅射具有更高的沉积速率。对于纯金属氧化物等绝缘靶材，必须使用射频溅射，且沉积速率通常较低。功率水平：提高功率可以提高射频和直流溅射的沉积速率，但对于导电材料，直流溅射的沉积速率仍然更高。压力和气体流量：通过优化气体压力和流量可以实现更高的沉积速率，射频和直流的最佳条件有所不同。注意：建议所有介电靶材均采用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有脆性和低导热性等不易溅射的特性。由于这些靶材导热性低，最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，一氧化钛 - TiO 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.99% - 白色，金属键合于 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板上。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控 TiO 溅射靶（白色），直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸。其纯度为 99.99%，金属键合于 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板上。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每次购买都兼具经济实惠和卓越品质。我们为每位客户提供大幅折扣，批量订购的客户将享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种较短的交货周期深受我们所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大程度地降低产品过时的风险。从理想真空购买产品意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新的趋势和需求，从而在竞争中保持领先地位。一氧化钛 (TiO) 特性外观：黑色至深棕色，类似陶瓷的材料密度：~4.9–5.0 g/cm³晶体结构：立方（NaCl 型）熔点：~1750–2000 °C（随化学计量变化）电性能：类似金属的导电性；电阻率通常为 ~30–100 µO·cm（高于纯 Ti 但远低于 TiO2）热导率：中等（~7–12 W/m·K）化学稳定性：在真空和惰性气氛中稳定；在高温下可在空气中氧化为 TiO2 溅射行为：导电性足以进行直流或脉冲直流溅射；易碎，因此如果功率上升过快，热冲击会导致开裂。薄膜中的用途在 PVD 工艺中溅射一氧化钛，可生产具有金属导电性和陶瓷耐久性的薄膜，使其适用于功能涂层和保护涂层。关键应用：电触点和互连：对金属和陶瓷具有良好粘附性的导电陶瓷层阻挡层：由于化学稳定性和中等导电性，可用作微电子中的扩散屏障光学涂层：光学堆栈中的吸收层、热控涂层和装饰膜硬涂层：工具、模具和机械零件的耐磨层过渡层：多层涂层中金属和绝缘氧化物之间的促进粘附的中间层摘要：一氧化钛在溅射中具有独特的金属和陶瓷特性平衡，具有良好的导电性、机械硬度和化学稳定性，在金属和略微反应模式下均具有沉积灵活性。注：所有介电靶材均建议采用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有脆性和低热导率等不利于溅射的特性。由于热导率低，这些靶材最易受到热冲击的影响，因此在启动和关闭阶段可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，氮化钛 - TiN 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.125 英寸，纯度 99.5%，与 OFHC 铜背板金属结合。Ideal Vacuum Products, LLC。该产品为圆形磁控氮化钛 - TiN 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.125 英寸。纯度为 99.5%，与 OFHC（无氧高导电性）铜背板金属结合。我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最优质的产品，让您在每次购买中都能享受到实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额折扣。我们库存大量产品，保证客户下订单后当天发货。所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户都喜欢这种较短的交货时间。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大限度地降低过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到他们的产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求来保持领先于竞争对手。氮化钛 - TiN氮化钛 (TiN) 是一种流行的薄膜材料，因为它具有独特的机械、电气和光学特性组合。以下是其在薄膜中的主要特性和用途的摘要：折射率：TiN 具有相对较高的折射率（在可见光范围内约为 2.4 至 3.0），使其适用于需要高反射率或特定干涉效果的光学应用。机械性能：TiN 非常坚硬且耐磨，硬度接近金刚石。它通常用作切削刀具、机械加工零件和耐磨表面的保护涂层。化学和热稳定性：TiN 具有化学惰性、耐腐蚀、高温稳定等特点，适用于恶劣环境和高温应用。电导率：TiN 具有导电性，这对于陶瓷材料来说是罕见的。这使得它在微电子领域可用作电极等组件的扩散屏障和导电涂层。沉积方法：TiN 可以使用多种技术沉积，包括 DC 或 RF 溅射、反应溅射（使用钛靶和氮气）和物理气相沉积 (PVD)。颜色和外观：TiN 具有独特的金黄色外观，这就是它也用于珠宝和奢侈品装饰涂层的原因。应用：常见于光学涂层、微电子、切削刀具涂层、保护层、扩散屏障和装饰饰面。总之，氮化钛因其硬度、耐腐蚀性和导电性而在薄膜应用中受到高度重视，使其成为从工具到电子和光学等行业的多功能选择。RF 与 DC 溅射：RF 溅射通常是溅射纯金属氧化物的首选方法，因为它们是绝缘体，而 RF 具有交变电场，可防止电荷在目标表面积聚。这种交变场减少了在直流溅射中会引起电弧的电荷积累。沉积速率：较低的沉积速率：在射频溅射中，与直流相比，功率传输到等离子体的效率较低，这主要是由于电场的交变性质。这导致与等效功率条件下的直流溅射相比，沉积速率较低。靶材：对于导电靶材（如反应溅射中的钛），直流溅射具有较高的沉积速率。对于纯金属氧化物等绝缘靶材，必须使用射频溅射，沉积速率通常较低。功率水平：增加功率可以提高射频和直流溅射的沉积速率，但对于导电材料，直流的沉积速率仍然往往较高。压力和气流：通过优化气体压力和流量可以实现更高的沉积速率，射频和直流的最佳条件不同。注意：建议对所有介电靶材使用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有不适合溅射的特性，例如脆性和低热导率。由于这些目标的热导率低，因此最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，氮化钛 - TiN 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.5%，金属键合于 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板上。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控氮化钛 - TiN 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸。其纯度为 99.5%，金属键合于 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板上。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每次购买都兼具价格优势和卓越品质。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种较短的交货周期深受我们所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大限度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买产品意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新的趋势和需求，从而在竞争中保持领先地位。氮化钛 - TiN 氮化钛 (TiN) 因其独特的机械、电气和光学特性而成为一种流行的薄膜材料。以下是其主要特性及其在薄膜中的用途的总结：折射率：TiN 具有相对较高的折射率（可见光范围内约为 2.4 至 3.0），使其非常适合需要高反射率或特定干涉效果的光学应用。机械特性：TiN 极其坚硬耐磨，硬度接近金刚石。它通常用作切削刀具、机械加工零件和耐磨表面的保护涂层。化学和热稳定性：TiN 具有化学惰性、耐腐蚀、高温稳定等特点，适用于恶劣环境和高温应用。电导性：TiN 具有导电性，这对于陶瓷材料来说很少见。这使得它在微电子领域可用作电极等组件的扩散阻挡层和导电涂层。沉积方法：TiN 可以使用多种技术沉积，包括直流或射频溅射、反应溅射（使用钛靶和氮气）和物理气相沉积 (PVD)。颜色和外观：TiN 具有独特的金黄色外观，这就是它也用于珠宝和奢侈品装饰涂层的原因。应用：常用于光学涂层、微电子、切削刀具涂层、保护层、扩散阻挡层和装饰饰面。总之，氮化钛因其硬度、耐腐蚀性和导电性而在薄膜应用中受到高度重视，使其成为从工具到电子和光学等行业的多功能选择。RF 与 DC 溅射：RF 溅射通常是溅射纯金属氧化物的首选方法，因为它们是绝缘体，而 RF 具有交变电场，可防止电荷在目标表面积聚。这种交变场减少了直流溅射中可能引起电弧的电荷积累。沉积速率：较低的沉积速率：在射频溅射中，由于电场的交变特性，功率传输到等离子体的效率低于直流溅射。这导致在同等功率条件下，其沉积速率低于直流溅射。靶材：对于导电靶材（例如反应溅射中的钛），直流溅射具有较高的沉积速率。对于纯金属氧化物等绝缘靶材，必须使用射频溅射，且沉积速率通常较低。功率水平：提高功率可以提高射频和直流溅射的沉积速率，但对于导电材料，直流溅射的沉积速率通常更高。压力和气流：通过优化气压和气流可以实现更高的沉积速率，射频和直流的最佳条件有所不同。注意：建议所有介电靶材都粘合金属或弹性体背板，因为这些材料具有脆性和低导热性等不适合溅射的特性。由于这些目标的热导率较低，因此最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，氧化钛 - TiO2 溅射靶，3' 直径 x 0.125" 厚，99.99% 纯度 - 白色，金属粘合到 OFHC 铜背板上 Ideal Vacuum Products, LLC。该产品是圆形磁控 TiO2 溅射靶（白色），直径 3' x 厚度 0.125"。纯度为 99.99%，金属粘合到 OFHC（无氧高导电性）铜背板上我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最高质量的产品，让您在每次购买中都能获得实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额节省。我们库存大量产品，保证客户下订单后当天发货。这种短交货期深受所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户喜爱。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本并最大限度地降低过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到他们的产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求来保持领先于竞争对手。二氧化钛二氧化钛 (TiO2) 是一种白色结晶化学化合物，因其高折射率和稳定性而广泛使用。它以三种主要形式存在：金红石、锐钛矿和板钛矿。TiO2 因其出色的不透明度和亮度而主要用作油漆、涂料和塑料中的颜料。二氧化钛（白色）主要用于光学涂层，因为它具有高折射率，使其成为防反射、干涉和高反射率涂层的理想选择。它用于多层光学设计，如介电镜和滤光片，可增强特定波长范围内的反射率或透射率。它在可见光至近红外光谱中的稳定性和透明度也使它适用于需要精确的光控制和高光学质量的镜头、分束器和保护涂层。射频与直流溅射：射频溅射通常是溅射纯金属氧化物的首选方法，因为它们是绝缘体，而射频具有交变电场，可防止电荷在目标表面积聚。这种交变场减少了电荷积累，否则会在直流溅射中引起电弧。沉积速率：较低的沉积速率：在射频溅射中，与直流相比，功率传输到等离子体的效率较低，这主要是由于电场的交变性质。这导致与等效功率条件下的直流溅射相比，沉积速率较低。靶材：对于导电靶（如反应溅射中的钛），直流溅射具有较高的沉积速率。对于纯金属氧化物等绝缘靶材，必须使用射频溅射，沉积速率通常较低。功率水平：增加功率可以提高射频和直流溅射的沉积速率，但对于导电材料，直流的沉积速率仍然更高。压力和气流：通过优化气体压力和流量可以实现更高的沉积速率，射频和直流的最佳条件不同。注意：建议对所有介电靶材使用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有不适合溅射的特性，例如脆性和低热导率。这些靶材由于导热性低，最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，钨 - 钨溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.95%。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控钨 - 钨溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.95%。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每一次购买都兼具价格实惠和卓越品质。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户更可享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种快速的交货周期深受所有希望通过更快周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大程度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求在竞争中保持领先地位。钨 (W) 关键特性外观：钢灰色至银白色，有光泽的金属密度：~19.25 g/cm³（非常高）晶体结构：体心立方 (BCC)熔点：3422 °C（所有金属中最高）沸点：~5555 °C热导率：~174 W/m·K（优异的散热性）电阻率：~5.28 µO·cm（良好的导体，非常适合直流溅射）热膨胀系数：~4.5 × 10?6 /°C（低，优异的尺寸稳定性）化学稳定性：非常稳定；在空气中形成薄氧化层，在高温下易挥发（WO3）溅射行为：高熔点和优异的导热性允许高功率密度；致密的靶材可产生光滑、高纯度的薄膜关键应用：钨是 PVD 中的关键溅射材料，适用于需要极高耐用性、热稳定性和高导电性的应用。微电子：集成电路中的扩散阻挡层和粘附层、半导体器件中的钨插头和互连微机电系统 (MEMS)：由于高密度和稳定性而形成的结构层和导电层反射和光学涂层：红外光学和热控涂层中的高反射率硬质耐磨涂层：用于工具、模具和高磨损机械零件高温组件：航空航天、国防和熔炉组件薄膜电阻器：电子产品中稳定、精确的电阻层总结钨的出色熔点、机械强度、低热膨胀和优异的导电性使其成为通过溅射生产的半导体、光学、高温和耐磨薄膜的首选。注：所有介电靶材均建议采用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有脆性和低热导率等不利于溅射的特性。由于热导率低，这些靶材最易受到热冲击的影响，因此在启动和关闭阶段可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，钒-V 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.9%。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控钒-V 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.9%。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每一次购买都兼具价格实惠和卓越品质。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户更可享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种快速的交货周期深受所有希望通过更快周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大程度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求来保持竞争优势。钒 - V PVD 溅射靶的关键特性外观：银灰色，延展性过渡金属密度：~6.11 g/cm³（与许多过渡金属相比较低）晶体结构：体心立方 (BCC) 熔点：1910 °C（高，热稳定性好）沸点：~3407 °C 热导率：~30.7 W/m·K（中等）电阻率：~19.7 µO·cm（导电，适用于直流溅射）耐腐蚀性：良好，在空气中形成稳定的氧化层（V2O5）溅射产量：中等，在金属模式下较高；反应溅射可产生氧化钒（VO2、V2O5）和氮化钒（VN）等化合物。反应性：易与氧和氮反应，可形成功能涂层特殊性质：VO2 表现出热致变色相变（光开关），VN 具有高硬度和耐磨性应用：光学涂层、热致变色智能窗、硬质涂层、催化剂和电子功能层钒的特性和应用：钒在 PVD 溅射中具有形成纯金属和功能化合物薄膜的能力。金属形式的钒涂层具有良好的附着力、中等硬度和耐腐蚀性。它与氧和氮的反应性允许沉积具有不同功能特性的氧化钒（VO2、V2O5）和氮化钒（VN）薄膜。氧化钒广泛用于智能窗的热致变色涂层（尤其是 VO2），可通过温度驱动的相变实现红外光控制。 V2O5薄膜应用于催化、电致变色装置和电池电极。氮化钒具有高硬度、耐磨性和导电性，适用于模具和电子产品的保护涂层。在PVD工艺中，钒靶材可以在直流模式下溅射形成金属薄膜，也可以在氧/氮气氛中进行反应溅射，生成氧化物和氮化物。沉积速率适中，工艺控制对于达到所需的化学计量和相态至关重要。这种多功能性使钒成为光学、保护、催化和电子薄膜应用的关键材料。注：建议所有介电靶材都使用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有脆性和低导热性等不利于溅射的特性。由于导热性低，这些靶材最容易受到热冲击的影响，因此在启动和关闭过程中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，锌 - 锌溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.995%。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控锌 - 锌溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.995%。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每一次购买都兼具价格实惠和卓越品质。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户更可享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种快速的交货周期深受所有希望通过更快周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大程度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新趋势和需求，从而在竞争中保持领先地位。锌 - Zn 锌 (Zn) 是一种柔软的蓝银色金属，密度约为 7.14 g/cm³，熔点较低，为 419.5 °C，这使其相对容易加工，但在溅射过程中对热敏感。它具有良好的电导率 (5.92 µO·cm) 和中等热导率 (~116 W/m·K)。其六方密排 (HCP) 晶体结构和柔软性使其具有高溅射产量，与许多难熔金属相比，可实现更快的沉积速率。应用：在 PVD 工艺中，锌靶广泛用于生产纯 Zn 薄膜或活性化合物，如氧化锌 (ZnO) 和氮化锌 (Zn3N2)，它们在透明导电涂层、光学层、防腐和半导体器件中很重要。然而，锌在空气中易氧化，因此靶材必须储存在干燥或惰性环境中，并且在沉积前需要进行预溅射以去除表面氧化物。由于锌靶材熔点低，因此需要仔细的热管理——通常采用高效冷却、逐渐增加功率和控制功率密度——以避免翘曲、熔化或形成液滴。金属溅射首选直流或脉冲直流电源，而绝缘化合物沉积可能需要射频电源。与背板正确粘合有助于改善热接触和机械稳定性。射频溅射：虽然直流溅射是首选，但射频溅射也可用于某些需要交变场的应用。ZnO 薄膜：光伏和显示器中的透明导电氧化物 (TCO) 层。阻挡涂层：钢和其他基材的防腐保护。光学涂层：紫外线阻隔和抗反射层。半导体层：用于压电和光电设备。阻隔涂层：用于钢和其他基材的防腐。反应沉积：在氧气或氮气环境中，锌易形成ZnO或Zn3N2薄膜，广泛应用于光电子、透明导电涂层和半导体领域。挑战：氧化敏感性：暴露在空气中时，锌会迅速在表面形成一层氧化锌层，这会影响溅射启动和沉积质量。总结：处理时注意锌的热敏感性和氧化倾向，锌是一种有效的溅射靶材，可提供高沉积速率和多种薄膜应用。备注：建议所有介电靶材均采用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有脆性和低导热性等不利于溅射的特性。由于导热性低，这些靶材最容易受到热冲击的影响，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，氧化锆 - ZrO2 溅射靶，3' 直径 x 0.125" 厚，99.99% 纯度，金属结合到 OFHC 铜背板上 Ideal Vacuum Products, LLC。该产品是圆形磁控 ZrO2 溅射靶，直径 3' x 厚度 0.125"。纯度为 99.99%，金属结合到 OFHC（无氧高导电性）铜背板上我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最高质量的产品，让您在每次购买中都能享受到实惠和卓越的产品。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额节省。我们库存大量产品，保证客户下订单后当天发货。这种短交货期深受所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户喜爱。我们的老客户可以保持较低的库存水平，降低仓储成本并最大限度地降低过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到他们的产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够通过快速适应新趋势和需求保持领先于竞争对手。氧化锆二氧化锆 (ZrO2)，也称为氧化锆，是一种由锆和氧组成的无机化合物。它是一种白色结晶固体，以其出色的硬度、化学稳定性和高熔点而闻名。ZrO2 因其强大的物理性能和多功能性而广泛用于各种工业和科学应用。二氧化锆 (ZrO2) 因其出色的热、化学和光学性能而广泛用于薄膜涂层。其高折射率、化学稳定性和机械耐久性使其成为各种先进薄膜应用的理想材料。以下是 ZrO2 在薄膜涂层中的主要用途：1. 光学涂层。2.介电层。3.保护和阻隔涂层4.热障涂层。二氧化锆薄膜具有独特的高折射率、介电强度和热稳定性组合，因此被广泛应用于各种先进应用，包括光学设备、微电子、保护涂层和高温系统。射频与直流溅射：射频溅射通常是溅射纯金属氧化物的首选方法，因为它们是绝缘体，而射频具有交变电场，可防止电荷在靶表面积聚。这种交变场减少了电荷积聚，否则会导致直流溅射产生电弧。沉积速率：较低的沉积速率：在射频溅射中，与直流相比，功率传输到等离子体的效率较低，这主要是由于电场的交变性质。这导致与等效功率条件下的直流溅射相比，沉积速率较低。靶材：对于导电靶（如反应溅射中的钛），直流溅射具有更高的沉积速率。对于纯金属氧化物等绝缘靶材，必须使用射频溅射，沉积速率通常较低。功率水平：增加功率可以提高射频和直流溅射的沉积速率，但对于导电材料，直流的沉积速率仍然更高。压力和气流：通过优化气体压力和流量可以实现更高的沉积速率，射频和直流的最佳条件不同。注意：建议对所有介电靶材使用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有不适合溅射的特性，例如脆性和低热导率。这些靶材由于导热性低，最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。

Ideal Vacuum 圆形磁控溅射靶，二氧化锆 - ZrO2 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸，纯度 99.99%，金属键合至 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板。Ideal Vacuum Products, LLC. 本产品为圆形磁控 ZrO2 溅射靶，直径 3 英尺 x 厚度 0.25 英寸。其纯度为 99.99%，金属键合至 0.125 英寸 OFHC（无氧高导）铜背板。我们采用极具竞争力的定价策略，确保您以最优价格获得最高品质的产品，让您的每次购买都兼具经济实惠和卓越品质。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额优惠。我们备有大量库存，保证客户下单后当天发货。这种较短的交货周期深受所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户青睐。我们的老客户可以维持较低的库存水平，降低仓储成本，并最大限度地降低产品过时的风险。从 Ideal Vacuum 购买产品意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新趋势和需求，从而在竞争中保持领先地位。氧化锆二氧化锆 (ZrO2)，也称为氧化锆，是一种由锆和氧组成的无机化合物。它是一种白色结晶固体，以其优异的硬度、化学稳定性和高熔点而闻名。ZrO2 因其坚固的物理特性和多功能性而被广泛应用于各种工业和科学应用。二氧化锆 (ZrO2) 因其优异的热学、化学和光学特性而被广泛用于薄膜涂层。其高折射率、化学稳定性和机械耐久性使其成为各种先进薄膜应用的理想材料。以下是 ZrO2 在薄膜涂层中的主要用途：1. 光学涂层；2. 介电层；3. 保护和阻隔涂层；4. 热障涂层。二氧化锆薄膜因其独特的高折射率、介电强度和热稳定性组合，广泛应用于光学器件、微电子、保护涂层和高温系统等各种先进应用领域。射频溅射与直流溅射：射频溅射通常是溅射纯金属氧化物的首选方法，因为它们是绝缘体，而射频具有交变电场，可防止电荷在目标表面积聚。这种交变电场减少了电荷积聚，否则会在直流溅射中引起电弧。沉积速率：较低的沉积速率：在射频溅射中，与直流溅射相比，功率向等离子体的传输效率较低，这主要是由于电场的交变特性。这导致沉积速率低于同等功率条件下的直流溅射。靶材：对于导电靶材（例如反应溅射中的钛），直流溅射具有更高的沉积速率。对于纯金属氧化物等绝缘靶材，必须使用射频溅射，且沉积速率通常较低。功率水平：提高功率可以提高射频和直流溅射的沉积速率，但对于导电材料，直流溅射的沉积速率仍然往往更高。压力和气流：通过优化气压和气流可以实现更高的沉积速率，射频和直流的最佳条件有所不同。注意：建议所有介电靶材都使用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有脆性和低导热性等不适合溅射的特性。由于导热性低，这些靶材最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。