Pfeiffer Vacuum A 103P LV DN50 SS 60 PL, 건식 반도체 다단계 루츠 진공 펌프, Pfeiffer Adixen 건식 다단계 루츠 진공 펌프,  PN  A3G2151020300

이것들 Pfeiffer Vacuum A 103P LV DN50 SS 60 PL  부품 번호가 있습니다 A3G2151020300, 새롭고 완전한 기능이 제공됩니다. Pfeiffer Vacuum 보증. Pfeiffer Adixen 중형 A3P 시리즈 반도체 건식 진공 펌프는 검증된 다단계 Roots 기술을 기반으로 합니다. 펌프 내부는 부식성 가스에 강합니다. 이러한 이유로 펌프는 중간 부하 공정에서 높은 신뢰성을 갖습니다. 시리즈에서 사용 가능한 세 가지 모델은 광범위한 펌핑 속도를 제공하므로 반도체 산업의 중형 진공 펌프에 대한 대부분의 요구 사항을 충족합니다. Pfeiffer Adixen A3P 시리즈는 클린룸에서의 작동에 적합하며 CE 및 Semi S2 표준을 준수합니다.

건식 펌프는 중간 작업 공정에 적용할 때 높은 신뢰성을 자랑합니다. 이 시리즈의 펌프에는 온도 센서와 불활성 가스 플러싱 기능이 있습니다. 낮은 소음 방출과 낮은 진동 수준은 Pfeiffer Adixen A3P 시리즈의 또 다른 특징입니다.

Pfeiffer Adixen ADH, A4H 및 A4X 가혹한 공정 시리즈 건식 반도체 진공 펌프는 예를 들어 반도체 및 코팅 산업에서 사용되는 화학 공정입니다. 주로 공격적이고 부식성인 매체가 진공 상태에서 사용되고 처리되기 때문에 이러한 공정은 가혹합니다. 이러한 매체는 프로세스 시스템의 설계 및 품질에 대한 가장 높은 요구 사항을 갖습니다. 일반적인 가혹한 공정에는 에칭, 화학 기상 증착(CVD), 원자층 증착(ALD) 및 금속 유기 화학 기상 증착(MOCVD)이 있습니다.

혹독한 작업 공정에서는 공격적이고 부식성이 있는 화학 물질이 사용되므로 진공 펌프와 구성품은 부식 방지 기능이 있어야 합니다. 반도체 및 코팅 산업의 응용 분야에서는 분말 발생이 자주 증가하여 진공 펌프에 축적될 수 있습니다. 따라서 사용 중인 프로세스 펌프가 이 정도의 분말 양에 적합한지 확인해야 합니다. 펌프 내부의 응축을 최대한 방지하기 위해 퍼지 가스는 정교한 온도 관리와 함께 사용됩니다.

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