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Le pompe per vuoto a secco a semiconduttori della serie Pfeiffer Adixen per carichi medi A3P si basano sulla comprovata tecnologia Roots multistadio. L'interno delle pompe è resistente ai gas corrosivi. Per questo motivo, le pompe hanno un'elevata affidabilità nei processi a carico medio. I tre modelli disponibili della serie offrono un ampio spettro di velocità di pompaggio e quindi coprono la maggior parte dei requisiti delle pompe per vuoto per carichi medi nell'industria dei semiconduttori. La serie Pfeiffer Adixen A3P è adatta per il funzionamento in una camera bianca ed è conforme agli standard CE e Semi S2.

Le pompe a secco si distinguono per la loro elevata affidabilità per applicazioni in processi a carico medio. Le pompe della serie sono dotate di sensore di temperatura e lavaggio con gas inerte. Una bassa emissione di rumore e un basso livello di vibrazioni sono ulteriori caratteristiche della serie Pfeiffer Adixen A3P.

Le pompe per vuoto a semiconduttore a secco della serie Pfeiffer Adixen ADH, A4H e A4X per processi gravosi sono processi chimici utilizzati, ad esempio, nell'industria dei semiconduttori e dei rivestimenti. Questi processi sono difficili perché vengono utilizzati principalmente mezzi aggressivi e corrosivi e lavorati sotto vuoto. Questi fluidi hanno i requisiti più elevati per la progettazione e la qualità dei sistemi di processo. I tipici processi per impieghi gravosi sono l'incisione, la deposizione chimica da fase vapore (CVD), la deposizione di strati atomici (ALD) e la deposizione chimica da fase vapore organico di metalli (MOCVD).

Poiché nei processi gravosi vengono utilizzati prodotti chimici aggressivi e corrosivi, le pompe per vuoto e i componenti devono essere resistenti alla corrosione. Nelle applicazioni dell'industria dei semiconduttori e dei rivestimenti si verifica spesso una maggiore presenza di polvere, che può portare ad un accumulo nelle pompe per vuoto. Pertanto è necessario assicurarsi che le pompe di processo utilizzate siano adatte a questa quantità di polvere. Per evitare al meglio la formazione di condensa all'interno delle pompe, viene utilizzato il gas di spurgo in combinazione con una sofisticata gestione della temperatura.

Maggiori informazioni su questi
88838.5569
Pfeiffer Vacuum Pompa 1804X V2 SC CC M SS 1 6, Pompe per vuoto a radici multistadio a secco Pfeiffer-Adixen, Pompe per vuoto a radici multistadio a secco Pfeiffer Adixen,  PN  F4XD7MSS161011A
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Descrizione

  
Pfeiffer Vacuum Pompa 1804X V2 SC CC M SS 1 6, Pompe per vuoto a radici multistadio a secco Pfeiffer-Adixen, Pompe per vuoto a radici multistadio a secco Pfeiffer Adixen,  PN  F4XD7MSS161011A

Questi Pfeiffer Vacuum Pompa 1804X V2 SC CC M SS 1 6  avere il numero di parte F4XD7MSS161011A, sono nuovi e vengono forniti completi Pfeiffer Vacuum garanzia. Le pompe per vuoto a secco a semiconduttori della serie Pfeiffer Adixen per carichi medi A3P si basano sulla comprovata tecnologia Roots multistadio. L'interno delle pompe è resistente ai gas corrosivi. Per questo motivo, le pompe hanno un'elevata affidabilità nei processi a carico medio. I tre modelli disponibili della serie offrono un ampio spettro di velocità di pompaggio e quindi coprono la maggior parte dei requisiti delle pompe per vuoto per carichi medi nell'industria dei semiconduttori. La serie Pfeiffer Adixen A3P è adatta per il funzionamento in una camera bianca ed è conforme agli standard CE e Semi S2.

Le pompe a secco si distinguono per la loro elevata affidabilità per applicazioni in processi a carico medio. Le pompe della serie sono dotate di sensore di temperatura e lavaggio con gas inerte. Una bassa emissione di rumore e un basso livello di vibrazioni sono ulteriori caratteristiche della serie Pfeiffer Adixen A3P.

Le pompe per vuoto a semiconduttore a secco della serie Pfeiffer Adixen ADH, A4H e A4X per processi gravosi sono processi chimici utilizzati, ad esempio, nell'industria dei semiconduttori e dei rivestimenti. Questi processi sono difficili perché vengono utilizzati principalmente mezzi aggressivi e corrosivi e lavorati sotto vuoto. Questi fluidi hanno i requisiti più elevati per la progettazione e la qualità dei sistemi di processo. I tipici processi per impieghi gravosi sono l'incisione, la deposizione chimica da fase vapore (CVD), la deposizione di strati atomici (ALD) e la deposizione chimica da fase vapore organico di metalli (MOCVD).

Poiché nei processi gravosi vengono utilizzati prodotti chimici aggressivi e corrosivi, le pompe per vuoto e i componenti devono essere resistenti alla corrosione. Nelle applicazioni dell'industria dei semiconduttori e dei rivestimenti si verifica spesso una maggiore presenza di polvere, che può portare ad un accumulo nelle pompe per vuoto. Pertanto è necessario assicurarsi che le pompe di processo utilizzate siano adatte a questa quantità di polvere. Per evitare al meglio la formazione di condensa all'interno delle pompe, viene utilizzato il gas di spurgo in combinazione con una sofisticata gestione della temperatura.

Maggiori informazioni su questiPfeiffer Vacuum Pompa 1804X V2 SC CC M SS 1 6  potete trovarli scaricando il catalogo in pdf e i documenti qui sotto. Basta aprire il pdf catalogo qui sotto, esegui la ricerca pdf (ctrl F) e cerca il file F4XD7MSS161011A.

Prezzo

Prodotto: Pfeiffer Vacuum Pompa 1804X V2 SC CC M SS 1 6, Pompe per vuoto a radici multistadio a secco Pfeiffer Adixen, Pompe per vuoto a radici multistadio a secco Pfeiffer Adixen,  PN  F4XD7MSS161011A

Condizione: New
Garanzia: Pfeiffer Vacuum Garanzia
Numero di parte: F4XD7MSS161011A
Prezzo di vendita: €88,838.56

Valuta Euro (Euro)

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Manuali



DOWNLOAD DISPONIBILI:
  Brochure delle pompe per vuoto a semiconduttore a secco Pfeiffer A103P, A603P, A1003P.pdf (0.31 MB)
  Brochure delle pompe per vuoto a semiconduttore Roots multistadio a secco serie Pfeiffer A4.pdf (1.37 MB)
  Brochure.pdf delle pompe per vuoto a semiconduttore a secco ad alte prestazioni della serie Pfeiffer ADH (1.33 MB)
  Brochure.pdf Pompe per vuoto a semiconduttore a secco con pompa Roots multistadio Pfeiffer A 200L (0.68 MB)
  Istruzioni per l'uso delle pompe per vuoto a semiconduttore a secco Pfeiffer ACP 120G, ACG 600G.pdf (6.74 MB)
  Pfeiffer A 100L versione standard, bassa tensione, scheda dati interfaccia RS232/RS485.pdf (0.58 MB)
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