Pfeiffer Vacuum POMPE SÈCHE 1504H V2 SC CC K SS, Pompes à vide à racines sèches multi-étages Pfeiffer-Adixen, Pompes à vide à racines sèches multi étages Pfeiffer Adixen,  PN  F4HC7KSS6210210

Ces Pfeiffer Vacuum POMPE SÈCHE 1504H V2 SC CC K SS  avoir un numéro de pièce F4HC7KSS6210210, sont neufs et livrés avec Pfeiffer Vacuum garantie. Les pompes à vide sèches pour semi-conducteurs de la série Pfeiffer Adixen A3P, conçues pour les applications de moyenne puissance, reposent sur la technologie Roots multi-étages éprouvée. Leur intérieur est résistant aux gaz corrosifs, ce qui leur confère une grande fiabilité pour les processus de moyenne puissance. Les trois modèles disponibles offrent une large gamme de vitesses de pompage et répondent ainsi à la plupart des besoins en pompes à vide pour applications de moyenne puissance dans l'industrie des semi-conducteurs. La série Pfeiffer Adixen A3P est adaptée à une utilisation en salle blanche et est conforme aux normes CE et Semi S2.

Les pompes sèches se distinguent par leur grande fiabilité pour les applications de moyenne intensité. Les pompes de cette série sont équipées d'un capteur de température et d'un système de rinçage au gaz inerte. Elles se caractérisent également par un faible niveau sonore et de faibles vibrations.

Les pompes à vide sèches pour semi-conducteurs des séries Pfeiffer Adixen ADH, A4H et A4X sont conçues pour les procédés chimiques exigeants utilisés, par exemple, dans les industries des semi-conducteurs et des revêtements. Ces procédés sont dits « exigeants » car ils impliquent l'utilisation et le traitement sous vide de milieux principalement agressifs et corrosifs. Ces milieux imposent des exigences très strictes en matière de conception et de qualité des systèmes de traitement. Parmi les procédés typiques pour applications exigeantes, on peut citer la gravure, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt de couches atomiques (ALD) et le dépôt chimique en phase vapeur organométallique (MOCVD).

Étant donné que des produits chimiques agressifs et corrosifs sont utilisés dans les procédés industriels exigeants, les pompes à vide et leurs composants doivent être résistants à la corrosion. Dans les applications des industries des semi-conducteurs et des revêtements, la présence accrue de poudre peut entraîner son accumulation dans les pompes à vide. Il est donc impératif de s'assurer que les pompes utilisées sont adaptées à cette quantité de poudre. Afin de limiter au maximum la condensation à l'intérieur des pompes, un gaz de purge est utilisé conjointement à une gestion thermique sophistiquée.

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