Pfeiffer Vacuum Opción de bypass para ASM 3xx, Bombas de vacío de raíces multietapa secas Pfeiffer-Adixen, Bombas de vacío de raíces multietapa secas Pfeiffer Adixen,  PN  PT 445 411 -T

Estos Pfeiffer Vacuum Opción de bypass para ASM 3xx  tiene numero de pieza PT 445 411 -T, son nuevos y vienen completos Pfeiffer Vacuum garantía. Las bombas de vacío en seco para semiconductores de la serie A3P de Pfeiffer Adixen, de servicio mediano, se basan en la probada tecnología Roots multietapa. Su interior es resistente a gases corrosivos, lo que les confiere una alta fiabilidad en procesos de servicio mediano. Los tres modelos disponibles de la serie ofrecen un amplio rango de velocidades de bombeo, cubriendo así la mayoría de los requisitos para bombas de vacío de servicio mediano en la industria de semiconductores. La serie A3P de Pfeiffer Adixen es apta para su uso en salas blancas y cumple con las normas CE y Semi S2.

Las bombas en seco se distinguen por su alta fiabilidad en aplicaciones de procesos de exigencia media. Las bombas de esta serie incorporan un sensor de temperatura y purga con gas inerte. La baja emisión de ruido y el bajo nivel de vibraciones son otras características de la serie Pfeiffer Adixen A3P.

Las bombas de vacío para semiconductores en seco de las series ADH, A4H y A4X de Pfeiffer Adixen, diseñadas para procesos exigentes, se emplean en procesos químicos utilizados, por ejemplo, en las industrias de semiconductores y recubrimientos. Estos procesos son exigentes debido a que se utilizan y procesan al vacío medios principalmente agresivos y corrosivos. Estos medios imponen los más altos requisitos en cuanto al diseño y la calidad de los sistemas de proceso. Algunos ejemplos típicos de procesos exigentes son el grabado, la deposición química de vapor (CVD), la deposición de capas atómicas (ALD) y la deposición química de vapor metalorgánica (MOCVD).

Dado que en los procesos exigentes se utilizan productos químicos agresivos y corrosivos, las bombas de vacío y sus componentes deben ser resistentes a la corrosión. En las aplicaciones de las industrias de semiconductores y recubrimientos, suele haber una mayor presencia de polvo, lo que puede provocar su acumulación en las bombas de vacío. Por lo tanto, es fundamental garantizar que las bombas de proceso utilizadas sean adecuadas para esta cantidad de polvo. Para evitar la condensación dentro de las bombas, se utiliza gas de purga junto con un sistema avanzado de control de la temperatura.

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