Skip to main content
× Heim Dienstleistungen Produkte Kataloge Downloads Technischer Support Um Kontakt Karriere (505) 872-0037

(505) 872-0037

Shopping Cart Icon
Wagen
 
Login Icon
Anmeldung
Language Selector
de-de
×
Americas
Europe
Middle East & Africa
Asia Pacific & Japan
Ideal Vacuum XG-120 Digital Thermocouple Gauges On Sale Pfeiffer ASM340 Leak Detectors On Sale Ideal Vacuum XG-110 Portable Digital Thermocouple Controllers On Sale Agilent Varian Helium Leak Detectors On Sale Agilent TriScroll Pumps On Sale Edwards nEXT300D TStations On Sale

Stichwort       Artikelnummer:      

× Vakuumpumpen Modulare Vakuumkammern Edelstahl Vakuumkammern Aluminium Vakuumkammern ExploraVAC Unlimited Kammern ExploraVAC Vakuumkammern Fittings und Flansche Durchführungen Vakuumventile Umbausätze, Teile und Motoren Vakuumflüssigkeiten, Öle und Fette Turbopumpen und Controller Filter Fallen und Schalldämpfer Konvektions und Vakuumöfen Lecksuche und RGA Vakuum Druck Messung Umlaufkühler und Wasserbäder
Die mittelschweren Halbleiter-Trockenvakuumpumpen der A3P-Serie von Pfeiffer Adixen basieren auf der bewährten mehrstufigen Roots-Technologie. Das Innere der Pumpen ist beständig gegen korrosive Gase. Aus diesem Grund weisen die Pumpen eine hohe Zuverlässigkeit bei mittelschweren Prozessen auf. Die drei verfügbaren Modelle der Serie bieten ein breites Spektrum an Saugvermögen und decken damit die meisten Anforderungen an mittelschwere Vakuumpumpen in der Halbleiterindustrie ab. Die Pfeiffer Adixen A3P-Serie ist für den Betrieb im Reinraum geeignet und entspricht den CE- und Semi-S2-Standards.

Die Trockenpumpen zeichnen sich durch ihre hohe Zuverlässigkeit für Anwendungen in mittelschweren Prozessen aus. Die Pumpen der Serie verfügen über einen Temperatursensor und eine Inertgasspülung. Eine geringe Geräuschemission und ein geringes Vibrationsniveau sind weitere Merkmale der Pfeiffer Adixen A3P-Serie.

Die trockenen Halbleiter-Vakuumpumpen der Serie ADH, A4H und A4X von Pfeiffer Adixen für raue Prozesse sind chemische Prozesse, die beispielsweise in der Halbleiter- und Beschichtungsindustrie eingesetzt werden. Diese Prozesse sind rau, da vor allem aggressive und korrosive Medien zum Einsatz kommen und unter Vakuum verarbeitet werden. Diese Medien stellen höchste Anforderungen an die Gestaltung und Qualität der Prozessanlagen. Typische Prozesse für raue Beanspruchung sind Ätzen, chemische Gasphasenabscheidung (CVD), Atomlagenabscheidung (ALD) sowie metallorganische chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD).

Da in anspruchsvollen Prozessen aggressive und ätzende Chemikalien zum Einsatz kommen, müssen die Vakuumpumpen und Komponenten korrosionsbeständig sein. Bei Anwendungen in der Halbleiter- und Beschichtungsindustrie kommt es häufig zu einem erhöhten Pulveranfall, der zu Ansammlungen in den Vakuumpumpen führen kann. Daher muss darauf geachtet werden, dass die eingesetzten Prozesspumpen für diese Pulvermenge geeignet sind. Um Kondensation innerhalb der Pumpen bestmöglich zu vermeiden, wird Spülgas in Kombination mit einem ausgeklügelten Temperaturmanagement eingesetzt.

Weitere Informationen dazu
115631.1315
Pfeiffer Vacuum PUMPE 3004XN V2 SC CC C TH 1 6, Trockene mehrstufige Roots-Vakuumpumpen von Pfeiffer-Adixen, Trockene mehrstufige Roots Vakuumpumpen von Pfeiffer Adixen,  PN  F4NI7CTH1613110
×

Load

Beschreibung

  
Pfeiffer Vacuum PUMPE 3004XN V2 SC CC C TH 1 6, Trockene mehrstufige Roots-Vakuumpumpen von Pfeiffer-Adixen, Trockene mehrstufige Roots Vakuumpumpen von Pfeiffer Adixen,  PN  F4NI7CTH1613110

Diese Pfeiffer Vacuum PUMPE 3004XN V2 SC CC C TH 1 6  Teilenummer haben F4NI7CTH1613110, sind neu und werden komplett geliefert Pfeiffer Vacuum Garantie. Die mittelschweren Halbleiter-Trockenvakuumpumpen der A3P-Serie von Pfeiffer Adixen basieren auf der bewährten mehrstufigen Roots-Technologie. Das Innere der Pumpen ist beständig gegen korrosive Gase. Aus diesem Grund weisen die Pumpen eine hohe Zuverlässigkeit bei mittelschweren Prozessen auf. Die drei verfügbaren Modelle der Serie bieten ein breites Spektrum an Saugvermögen und decken damit die meisten Anforderungen an mittelschwere Vakuumpumpen in der Halbleiterindustrie ab. Die Pfeiffer Adixen A3P-Serie ist für den Betrieb im Reinraum geeignet und entspricht den CE- und Semi-S2-Standards.

Die Trockenpumpen zeichnen sich durch ihre hohe Zuverlässigkeit für Anwendungen in mittelschweren Prozessen aus. Die Pumpen der Serie verfügen über einen Temperatursensor und eine Inertgasspülung. Eine geringe Geräuschemission und ein geringes Vibrationsniveau sind weitere Merkmale der Pfeiffer Adixen A3P-Serie.

Die trockenen Halbleiter-Vakuumpumpen der Serie ADH, A4H und A4X von Pfeiffer Adixen für raue Prozesse sind chemische Prozesse, die beispielsweise in der Halbleiter- und Beschichtungsindustrie eingesetzt werden. Diese Prozesse sind rau, da vor allem aggressive und korrosive Medien zum Einsatz kommen und unter Vakuum verarbeitet werden. Diese Medien stellen höchste Anforderungen an die Gestaltung und Qualität der Prozessanlagen. Typische Prozesse für raue Beanspruchung sind Ätzen, chemische Gasphasenabscheidung (CVD), Atomlagenabscheidung (ALD) sowie metallorganische chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD).

Da in anspruchsvollen Prozessen aggressive und ätzende Chemikalien zum Einsatz kommen, müssen die Vakuumpumpen und Komponenten korrosionsbeständig sein. Bei Anwendungen in der Halbleiter- und Beschichtungsindustrie kommt es häufig zu einem erhöhten Pulveranfall, der zu Ansammlungen in den Vakuumpumpen führen kann. Daher muss darauf geachtet werden, dass die eingesetzten Prozesspumpen für diese Pulvermenge geeignet sind. Um Kondensation innerhalb der Pumpen bestmöglich zu vermeiden, wird Spülgas in Kombination mit einem ausgeklügelten Temperaturmanagement eingesetzt.

Weitere Informationen dazuPfeiffer Vacuum PUMPE 3004XN V2 SC CC C TH 1 6  finden Sie, indem Sie den PDF-Katalog und die Dokumente unten herunterladen. Öffnen Sie einfach das PDF Katalog unten, führen Sie die PDF-Suche aus (Strg F) und suchen Sie nach F4NI7CTH1613110.

Preis

Produkt: Pfeiffer Vacuum PUMPE 3004XN V2 SC CC C TH 1 6, Trockene mehrstufige Roots Vakuumpumpen von Pfeiffer Adixen, Trockene mehrstufige Roots Vakuumpumpen von Pfeiffer Adixen,  PN  F4NI7CTH1613110

Zustand: New
Garantie: Pfeiffer Vacuum Garantie
Artikelnummer: F4NI7CTH1613110
Verkaufspreis: €115,631.13

Währung Euro (Euro)

QTY:   

Anleitungen



VERFÜGBARE DOWNLOADS:
  Broschüre zu trockenen mehrstufigen Roots-Halbleiter-Vakuumpumpen der Serie A4 von Pfeiffer.pdf (1.37 MB)
  Pfeiffer A 100L Standardversion, Niederspannung, RS232/RS485-Schnittstelle, Datenblatt.pdf (0.58 MB)
  Pfeiffer A 200L Multi-Stage Roots Pump Dry Semiconductor Vacuum Pumps Brochure.pdf (0.68 MB)
  Pfeiffer A103P, A603P, A1003P Trockenhalbleiter-Vakuumpumpen Broschüre.pdf (0.31 MB)
  Pfeiffer ACP 120G, ACG 600G Trockenhalbleiter-Vakuumpumpen Bedienungsanleitung.pdf (6.74 MB)
  Pfeiffer ADH-Serie Hochleistungs-Trockenhalbleiter-Vakuumpumpen Broschüre.pdf (1.33 MB)
Marca de agua con el logotipo de Ideal Vacuum
KONTAKTIERE UNS
Ideal Vacuum Products , LLC
5910 Midway Park Blvd NE
Albuquerque, New-Mexiko 87109-5805 USA

Telefon: (505) 872-0037
Fax: (505) 872-9001
info@idealvac.com