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Pfeiffer Vacuum 1504XN V2 SC CC S SS 8 2 5, Trockene mehrstufige Roots-Vakuumpumpen von Pfeiffer-Adixen, Trockene mehrstufige Roots Vakuumpumpen von Pfeiffer Adixen, PN F4NC7SSS8252140
Diese Pfeiffer Vacuum 1504XN V2 SC CC S SS 8 2 5 Teilenummer haben F4NC7SSS8252140, sind neu und werden komplett geliefert Pfeiffer Vacuum Garantie. Die mittelbeanspruchten Halbleiter-Trockenvakuumpumpen der Serie A3P von Pfeiffer Adixen basieren auf der bewährten mehrstufigen Roots-Technologie. Das Pumpeninnere ist beständig gegen korrosive Gase. Daher zeichnen sich die Pumpen durch hohe Zuverlässigkeit bei mittelbeanspruchten Prozessen aus. Die drei verfügbaren Modelle der Serie bieten ein breites Spektrum an Saugleistungen und decken damit die meisten Anforderungen an mittelbeanspruchte Vakuumpumpen in der Halbleiterindustrie ab. Die Serie A3P von Pfeiffer Adixen ist für den Reinraumbetrieb geeignet und entspricht den CE- und Semi-S2-Standards.
Die Trockenpumpen zeichnen sich durch ihre hohe Zuverlässigkeit bei Anwendungen in mittelschweren Prozessen aus. Die Pumpen dieser Baureihe verfügen über einen Temperatursensor und eine Spülung mit Inertgas. Geringe Geräuschemission und niedrige Vibrationswerte sind weitere Merkmale der Pfeiffer Adixen A3P-Baureihe.
Die Trockenvakuumpumpen der Serien Pfeiffer Adixen ADH, A4H und A4X für anspruchsvolle Halbleiterprozesse werden beispielsweise in der Halbleiter- und Beschichtungsindustrie eingesetzt. Diese Prozesse sind anspruchsvoll, da vorwiegend aggressive und korrosive Medien unter Vakuum verarbeitet werden. Daher werden höchste Anforderungen an die Auslegung und Qualität der Prozessanlagen gestellt. Typische Beispiele für solche anspruchsvollen Prozesse sind Ätzen, chemische Gasphasenabscheidung (CVD), Atomlagenabscheidung (ALD) sowie metallorganische chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD).
Da in anspruchsvollen Prozessen aggressive und korrosive Chemikalien zum Einsatz kommen, müssen Vakuumpumpen und -komponenten korrosionsbeständig sein. In Anwendungen der Halbleiter- und Beschichtungsindustrie tritt häufig vermehrt Pulver auf, das sich in den Vakuumpumpen ablagern kann. Daher muss sichergestellt werden, dass die eingesetzten Prozesspumpen für diese Pulvermenge geeignet sind. Um Kondensation im Inneren der Pumpen bestmöglich zu vermeiden, wird Spülgas in Kombination mit einem ausgeklügelten Temperaturmanagement verwendet.
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