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× Vakuumpumpen Modulare Vakuumkammern Edelstahl Vakuumkammern Aluminium Vakuumkammern ExploraVAC Unlimited Kammern ExploraVAC Vakuumkammern Fittings und Flansche Durchführungen Vakuumventile Umbausätze, Teile und Motoren Vakuumflüssigkeiten, Öle und Fette Turbopumpen und Controller Filter Fallen und Schalldämpfer Konvektions und Vakuumöfen Lecksuche und RGA Vakuum Druck Messung Umlaufkühler und Wasserbäder
Die mittelschweren Halbleiter-Trockenvakuumpumpen der A3P-Serie von Pfeiffer Adixen basieren auf der bewährten mehrstufigen Roots-Technologie. Das Innere der Pumpen ist beständig gegen korrosive Gase. Aus diesem Grund weisen die Pumpen eine hohe Zuverlässigkeit bei mittelschweren Prozessen auf. Die drei verfügbaren Modelle der Serie bieten ein breites Spektrum an Saugvermögen und decken damit die meisten Anforderungen an mittelschwere Vakuumpumpen in der Halbleiterindustrie ab. Die Pfeiffer Adixen A3P-Serie ist für den Betrieb im Reinraum geeignet und entspricht den CE- und Semi-S2-Standards.

Die Trockenpumpen zeichnen sich durch ihre hohe Zuverlässigkeit für Anwendungen in mittelschweren Prozessen aus. Die Pumpen der Serie verfügen über einen Temperatursensor und eine Inertgasspülung. Eine geringe Geräuschemission und ein geringes Vibrationsniveau sind weitere Merkmale der Pfeiffer Adixen A3P-Serie.

Die trockenen Halbleiter-Vakuumpumpen der Serie ADH, A4H und A4X von Pfeiffer Adixen für raue Prozesse sind chemische Prozesse, die beispielsweise in der Halbleiter- und Beschichtungsindustrie eingesetzt werden. Diese Prozesse sind rau, da vor allem aggressive und korrosive Medien zum Einsatz kommen und unter Vakuum verarbeitet werden. Diese Medien stellen höchste Anforderungen an die Gestaltung und Qualität der Prozessanlagen. Typische Prozesse für raue Beanspruchung sind Ätzen, chemische Gasphasenabscheidung (CVD), Atomlagenabscheidung (ALD) sowie metallorganische chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD).

Da in anspruchsvollen Prozessen aggressive und ätzende Chemikalien zum Einsatz kommen, müssen die Vakuumpumpen und Komponenten korrosionsbeständig sein. Bei Anwendungen in der Halbleiter- und Beschichtungsindustrie kommt es häufig zu einem erhöhten Pulveranfall, der zu Ansammlungen in den Vakuumpumpen führen kann. Daher muss darauf geachtet werden, dass die eingesetzten Prozesspumpen für diese Pulvermenge geeignet sind. Um Kondensation innerhalb der Pumpen bestmöglich zu vermeiden, wird Spülgas in Kombination mit einem ausgeklügelten Temperaturmanagement eingesetzt.

Weitere Informationen dazu
2000.0394
Pfeiffer Vacuum SCHNITTSTELLE TEL UNITY+ 2TLA7, Trockene mehrstufige Roots-Vakuumpumpen von Pfeiffer-Adixen, Trockene mehrstufige Roots Vakuumpumpen von Pfeiffer Adixen,  PN  805581
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Beschreibung

  
Pfeiffer Vacuum SCHNITTSTELLE TEL UNITY+ 2TLA7, Trockene mehrstufige Roots-Vakuumpumpen von Pfeiffer-Adixen, Trockene mehrstufige Roots Vakuumpumpen von Pfeiffer Adixen,  PN  805581

Diese Pfeiffer Vacuum SCHNITTSTELLE TEL UNITY+ 2TLA7  Teilenummer haben 805581, sind neu und werden komplett geliefert Pfeiffer Vacuum Garantie. Die mittelschweren Halbleiter-Trockenvakuumpumpen der A3P-Serie von Pfeiffer Adixen basieren auf der bewährten mehrstufigen Roots-Technologie. Das Innere der Pumpen ist beständig gegen korrosive Gase. Aus diesem Grund weisen die Pumpen eine hohe Zuverlässigkeit bei mittelschweren Prozessen auf. Die drei verfügbaren Modelle der Serie bieten ein breites Spektrum an Saugvermögen und decken damit die meisten Anforderungen an mittelschwere Vakuumpumpen in der Halbleiterindustrie ab. Die Pfeiffer Adixen A3P-Serie ist für den Betrieb im Reinraum geeignet und entspricht den CE- und Semi-S2-Standards.

Die Trockenpumpen zeichnen sich durch ihre hohe Zuverlässigkeit für Anwendungen in mittelschweren Prozessen aus. Die Pumpen der Serie verfügen über einen Temperatursensor und eine Inertgasspülung. Eine geringe Geräuschemission und ein geringes Vibrationsniveau sind weitere Merkmale der Pfeiffer Adixen A3P-Serie.

Die trockenen Halbleiter-Vakuumpumpen der Serie ADH, A4H und A4X von Pfeiffer Adixen für raue Prozesse sind chemische Prozesse, die beispielsweise in der Halbleiter- und Beschichtungsindustrie eingesetzt werden. Diese Prozesse sind rau, da vor allem aggressive und korrosive Medien zum Einsatz kommen und unter Vakuum verarbeitet werden. Diese Medien stellen höchste Anforderungen an die Gestaltung und Qualität der Prozessanlagen. Typische Prozesse für raue Beanspruchung sind Ätzen, chemische Gasphasenabscheidung (CVD), Atomlagenabscheidung (ALD) sowie metallorganische chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD).

Da in anspruchsvollen Prozessen aggressive und ätzende Chemikalien zum Einsatz kommen, müssen die Vakuumpumpen und Komponenten korrosionsbeständig sein. Bei Anwendungen in der Halbleiter- und Beschichtungsindustrie kommt es häufig zu einem erhöhten Pulveranfall, der zu Ansammlungen in den Vakuumpumpen führen kann. Daher muss darauf geachtet werden, dass die eingesetzten Prozesspumpen für diese Pulvermenge geeignet sind. Um Kondensation innerhalb der Pumpen bestmöglich zu vermeiden, wird Spülgas in Kombination mit einem ausgeklügelten Temperaturmanagement eingesetzt.

Weitere Informationen dazuPfeiffer Vacuum SCHNITTSTELLE TEL UNITY+ 2TLA7  finden Sie, indem Sie den PDF-Katalog und die Dokumente unten herunterladen. Öffnen Sie einfach das PDF Katalog unten, führen Sie die PDF-Suche aus (Strg F) und suchen Sie nach 805581.

Preis

Produkt: Pfeiffer Vacuum SCHNITTSTELLE TEL UNITY+ 2TLA7, Trockene mehrstufige Roots Vakuumpumpen von Pfeiffer Adixen, Trockene mehrstufige Roots Vakuumpumpen von Pfeiffer Adixen,  PN  805581

Zustand: New
Garantie: Pfeiffer Vacuum Garantie
Artikelnummer: 805581
Verkaufspreis: €2,000.04

Währung Euro (Euro)

QTY:   

Anleitungen



VERFÜGBARE DOWNLOADS:
  Broschüre zu trockenen mehrstufigen Roots-Halbleiter-Vakuumpumpen der Serie A4 von Pfeiffer.pdf (1.37 MB)
  Pfeiffer A 100L Standardversion, Niederspannung, RS232/RS485-Schnittstelle, Datenblatt.pdf (0.58 MB)
  Pfeiffer A 200L Multi-Stage Roots Pump Dry Semiconductor Vacuum Pumps Brochure.pdf (0.68 MB)
  Pfeiffer A103P, A603P, A1003P Trockenhalbleiter-Vakuumpumpen Broschüre.pdf (0.31 MB)
  Pfeiffer ACP 120G, ACG 600G Trockenhalbleiter-Vakuumpumpen Bedienungsanleitung.pdf (6.74 MB)
  Pfeiffer ADH-Serie Hochleistungs-Trockenhalbleiter-Vakuumpumpen Broschüre.pdf (1.33 MB)
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5910 Midway Park Blvd NE
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